制劑
注射用兩性霉素B
雜質
質C15002000 分鐘填料品牌: XBridge shield RPl8、 AQua C18等,可分離雜質B和雜質D 兩性霉素B303nm雜質A002000050000b010a0°i1500°2000-250030030400045005000500600兩性霉素B雜質雜質B+雜質D雜質C 5001000150020002500300035004000450050.00 填料品牌: CAPCELL PAK C18MGⅡ、 Ultimate LPC18、 Inspire C18等,雜質B和雜質D同時洗脫。2.雜質結構雜質A(兩性霉素A)OH OHCHHOOH C47H75NO17926.11 雜質BOH OHNH1R-氧-甲基兩性霉素B 雜質C OH OH O CHCH3 C49H7NO17952.15 1-氧-乙基兩性霉素B雜質DOCH3HCH OH OH OH Ou CH3 C4gH75NO17938.12 1S-氧-甲基-兩性霉素B雜質ECH3H,C C4gH73NO18952.10 33-(3-甲酰基)-兩性霉素B