7.實驗室品管樣品laboratory control sample：一個含有基質且待測物濃度為已知的樣品。其目的在于檢查整個檢測方法的效率。可是用濃度確定的樣品。
8.方法偵測極限method detection limit：為一個在99%可信度下，可以被檢測出大于零的最小的濃度值。通常以含基質樣品為之，執行前先了解使用儀器的偵測極限IDL. MDL:method detection limit：使用通過整個處理分析過程的樣品來測得。
9.儀器偵測極限IDL：儀器訊號為咋訊的2.5~5.0倍時，或在檢量線范圍中明顯的感度轉折點。instrument detection limit：儀器可以探測到的最小的極限。通過測試未經樣品制備過程的樣品得到。
10.PQLractical quantitation limit：一般為MDL的3到10倍，被認為是能夠精確測定的最低濃度。
11.批次(Batch)
為品管之基本單元，指使用相同檢測方法、同組試劑、于相同時間內或連續一段時間內，以相同前處理、分析步驟一起檢測之樣品。其中每一批次樣品應具有同一基質或相似之基質。
12.查核樣品(Quality Check Sample)
指將適當濃度之標準品(不同于配制檢量線之標準品)添加于與樣品相似的基質中，所配制成的樣品；或直接購買濃度經確認之樣品充當之，藉此可確定分析結果的準確度。
13.添加 樣品(Spiked Sample)
為確認樣品中有無基質干擾或所用的檢測方法是否適當，將樣品等分為二，一部份依樣品前處理、分析步驟直接檢測之，另一部份添加適當量之待測物標準品后再依樣品前處理、分析步驟檢測之，后者即稱之為添加樣品。藉此可了解檢測方法之適用性及樣品之基質干擾。添加之濃度應接近法規管制標準或與樣品濃度相當。
添加樣品分析為確認樣品中有無基質干擾或所用的檢測方法是否適當之分析過程，其操作方式為:將樣品等分為二，一部份依樣品前處理、分析步驟直接分析之，另一部份添加適當濃度之待測物標準溶液后再依樣品前處理、分析步驟分析之。所添加之濃度應在法規管制標準或與樣品濃度相當。由添加標準品量、未添加樣品及添加樣品之測定值可計算添加標準品之回收率，若回收率落于管制范圍以外，應立即診斷原因，且當日之所有測定值應視為不可靠，在采取矯正措施后重行分析。藉此可了解檢測方法之樣品之基質干擾及適用性。除檢測方法另有規定外，通常至少每10個樣品應同時執行一個添加樣品分析，若每批次樣品數少于10個，則每批次應分析一個添加樣品。檢驗室應記錄分析日期、添加樣品編號、添加標準品濃度(量)、未添加樣品濃度(量)及添加樣品之濃度(量)、添加回收率。
14.檢量線(Calibration Curve)
指以一系列已知待測物濃度之標準溶液與其相對應儀器感應訊號值，所繪制而成的相關曲線。
15.檢量線確認(Verification of Calibration Curve)
檢量線確認是以含待測物之標準溶液檢查檢量線之適用性，該標準溶液應由不同于制備檢量線標準溶液之標準品配制而成。檢量線于制備完成后，應隨即以不同于檢量線制備用標準品來源之標準溶液來確認檢量線的適用性，檢量線確認之標準溶液其濃度建議取檢量線中間濃度確認之。于同一工作日如系連續操作，則每12小時亦應進行檢量線確認。由儀器上的感應訊號值，利用已建立檢量線求得濃度，比對測定值與檢量線確認用標準溶液濃度，求其相對誤差值。
16.查核樣品分析
指將適當濃度之標準品(不同于配制檢量線之標準品)添加于與樣品相似的基質中所配制成之樣品；或直接購買濃度經確認之樣品充當之。藉此可確定分析結果的準確度。除檢測方法另有規定外，通常至少每10個樣品應同時分析一個查核樣品，若每批次樣品數少于10個，則每批次應執行一個查核樣品分析。檢驗室應記錄查核樣品編號、分析日期、查核樣品濃度值、查核樣品測定值及回收率。
17.最佳濃度范圍( Optimum concentration range ：以上、下限表示的濃度范圍。低于下限濃度時，需將顯示器的尺度放大而予降低，使范圍向下延伸；高于上限濃度時，需作線性校正。此濃度范圍隨儀器的靈敏度及所使用的操作條件不同而異。
18.靈敏度( Sensitivity 原子吸收光譜法AA：以能產生1%吸光度的每公升溶液中所含有的金屬毫克數表示。
ICP:以發射光的強度與濃度的函數關系所建立的檢量線的斜率表示。
19.方法偵測極限( Method detection limit, MDL ：于99 % 可信度，物質可被偵測并報告之大于0的最低濃度。方法偵測極限系將內含待測物的某特定基質的樣品，經過樣品制備的前處理步驟后，進行分析而得者。
20.總可回收金屬( Total recoverable metals ：將未過濾的樣品，以熱的稀無機酸處理后，經分析所得之金屬濃度。
21.溶解金屬( Dissolved metals ：將樣品以0.45μm 濾膜過濾后，經分析所得之金屬濃度。
22.懸浮金屬( Suspended metals ：樣品以0.45μm 濾膜過濾后，滯留在濾膜上，經分析所得之金屬濃度。
23.總金屬( Total metals ：
24.儀器偵測極限( Instrument detection limit, IDL ：于金屬待測物的測定波長，以試劑水重復測定7次所得訊號的3倍標準偏差之訊號值，所相當的待測物濃度。
25．干擾檢查樣品( Interference check sample，ICS ：含有已知濃度之干擾物及金屬待測物的溶液，可用來檢查背景及元素間干擾的校正因子。
26．最初校正確認標準品( Initial calibration verification (ICV) standard ：用來檢查起始校正曲線準確度之已確認或獨立配制之溶液。執行感應耦合電漿原子發射光譜法分析時，需針對分析時所使用的每一波長進行最初校正確認標準品分析。