| 儀器名稱： | 佳能光刻機 |
| 儀器編號： | 80424600 |
| 產地： | 日本 |
| 生產廠家： | 日本 |
| 型號： | PLA-500 |
| 出廠日期： | 198004 |
| 購置日期： | 198004 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一樓微納平臺光刻間 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 付玉霞（010-62781090,15210647296,fuyuxia@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 光刻 微納加工 半導體 集成電路 MEMS |
| 技術指標： | 最小分辨率約2μm；套刻精度±2μm；掩膜版尺寸5英寸X5英寸；對準間隙0~98μm；曝光間隙0~48μm；操作桿可掃視范圍X方向10mm、Y方向10mm。 |
| 知名用戶： | 吳華強（微電子所）、伍曉明（微電子所）、錢鶴（微電子所）、陳煒（微電子所）、鄧寧（微電子所）、劉建設（微電子所）、劉澤文（微電子所）、張志剛（微電子所）、楊秩（微電子所）、王敬（微電子所）、荊高山（精儀系）、許軍（微電子所）、謝丹（微電子所）、嚴清峰（化學系）、崔天宏（精儀系）、嚴小兵（中科院微所）、王喆垚（微電子所）、王曉紅（微電子所）。 |
| 技術團隊： | 吳華強、伍曉明、劉朋、付玉霞、魯勇、劉愛華、竇唯志、張忠會、李志東 |
| 功能特色： | 該設備為一臺半自動接觸式曝光機，需與其余輔助設備配套完成整個光刻工藝。光刻工藝的主要步驟分為：烘箱將硅片水分去除"熏表面接觸劑"勻膠機涂覆光刻膠"熱板對膠進行前烘"曝光機曝光"熱板進行中烘"顯影"顯微鏡進行圖形檢查"使用烘箱進行后烘。該設備對準曝光方式可在接近式、硬接觸和軟接觸模式之間進行轉換。可用的光波長度由g線、h線和i線合成；積分光量計的設定量能以0.1為單位在0~59.9之間變動；帶硅片自動/手動供給選擇開關。本設備具備自動傳片功能，供有平邊的圓片選擇；手動傳片功能供無平邊或透明的圓片選擇。另外，具備自動找平功能，從而不依賴于人的加工水平。本設備具有操作簡單、工藝穩定、加工效率高等優點。 目前，該設備可做的光刻工藝有：曝AZ601正性光刻膠厚1.5微米~2.5微米、NR9-3000P負性膠厚2.0~2.7微米用于刻蝕工藝；NR9-3000PY負性膠厚2.0~2.7微米用于剝離工藝；NR9-6000PY負性膠厚5.0~5.7微米用于剝離工藝；AZ4620正性光刻膠厚4.5~8微米用于刻蝕工藝；雙層膠用于剝離工藝等。 |
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 上機預約 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 400.0 | |
| 送樣 | 元/小時 | 測試費 | 400.0 |