光敏反應（Photosensitivity）包括光毒反應（Phototoxicity）和光變態反應（Photoallergy）兩大類。
1、光毒反應
由于某些藥物在吸收相應波長的能量后轉變為激發態，在激發態轉變為基態的過程中將能量釋放給氧或者周圍介質，生成單線態氧，超氧離子等高反應性物質，這些高反應性物質通過損傷DNA和細胞膜等途徑進而導致炎癥介質及細胞因子的產生和釋放，最終導致光毒性反應的發生，臨床大多表現為過度曬傷樣反應。其中光毒性反應又可以分為依賴氧的光動力學反應和非氧依賴的非光動力學反應。 [1]
呋喃香豆素類、煤焦、四環素族和汞制等藥物與紫外線照射同時應用，可增強機體對紫外線的敏感性，產生較強的皮膚反應，臨床上用以提高紫外線治療某些皮膚病的療效。
2. 光變態反應
光變態反應屬于Ⅳ型過敏反應，是獲得性免疫介導反應，發生率比較低，與抗體和延遲的細胞反應有關。發生機制為藥物吸收光能后變為激發態，并與蛋白結合成為藥物-蛋白結合物，經朗格漢斯細胞傳遞給免疫細胞，通過釋放各種細胞因子并激活肥大細胞，再次接觸藥物后引起變態反應，臨床表現與Ⅳ型過敏反應類似。