橢偏儀的適用樣品范圍很廣，紫外至近紅外波段透過半透過等材料都不在話下，也就是可以表征絕大部分的半導體和介電薄膜材料，甚至厚度在幾十納米以下的金屬薄層也是囊中之物。
橢偏儀可以直接測量樣品折射率和消光系數，也就是光的吸收強度；
在此基礎上，我們可以鑒定樣品的組分和帶隙；
最后通過與強大的軟件分析相結合，樣品信息如厚度、粗糙度、均勻度、孔隙率、電導率等，在橢偏儀面前一覽無余。
SE-VM是一款高精度快速測量光譜橢偏儀。可實現科研/企業級高精度快速光譜橢偏測量，支持多角度，微光斑，可視化調平系統等高兼容性靈活配置，多功能模塊定制化設計。
光譜橢偏儀產品特點：
1.采用高性能進口復合光源，光譜覆蓋可見到近紅外范圍 (380-1000nm)，可支持擴展紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)
2. 高精度旋轉補償器調制、PCRSA配置，實現Psi/Delta光譜數據高速采集；
3. 支持系列配置靈活，可根據不同應用場景支持多功能模塊化定制；
4. 數百種材料數據庫、多種算法模型庫，涵蓋了目前絕大部分的光電材料；
廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用,實現光學薄膜、納米結構的光學常數和幾何特征尺寸快速的表征分析。