全自動勻膠顯影系統是一種用于信息科學與系統科學、物理學、工程與技術科學基礎學科、材料科學領域的工藝試驗儀器，于2019年12月5日啟用。
技術指標
襯底支持：4英寸，6英寸基片。7個可獨立進行控溫的熱板，高精度熱板溫度精度+/-0.2℃。勻膠單元每個Cup配置4條光刻膠管路，具備背洗、邊緣清洗功能。顯影單元每個Cup配置1條顯影液管路，具備獨立清洗管路。自帶廢液回收裝置。勻膠均勻性：片內（Wafer in 6inch）≤ 3%；顯影均勻性：片內（Wafer in 6inch）≤ 5%。
主要功能
設備能支持130nm工藝技術，與光刻機相連作業，完成全自動光刻。系統包括2個勻膠單元、2個顯影單元、7個熱處理單元，可實現全自動勻膠、顯影及烘烤工藝操作。