| 儀器名稱： | 化學氣相沉積系統 |
| 儀器編號： | 13003987 |
| 產地： | 美國 |
| 生產廠家： | TRION |
| 型號： | PHANTOMIII |
| 出廠日期： | 201205 |
| 購置日期： | 201303 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>薄膜工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺 |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 集成電路 微納加工 半導體工藝 PECVD |
| 技術指標： | 等離子增強型化學氣相淀積；工藝溫度100～400℃ |
| 知名用戶： | 吳華強 微電子所；許軍 微電子所；陳煒 微電子所；錢鶴 微電子所；劉澤文 微電子所；岳瑞峰 微電子所； 王喆垚 微電子所；蔡堅 微電子所；鄧寧 微電子所；伍曉明 微電子所； 張志勇 北京大學 |
| 技術團隊： | 張忠會 田震 韓冰 竇維治 |
| 功能特色： | 此設備在100～400℃下淀積SiOx、SiNx、SiOxNy、ɑ-Si、SiCx 高低應力SiNx薄膜。反應氣體主要是元素的氫化物。 |
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| PECVD淀積 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 500.0 | |
| 送樣 | 元/小時 | 測試費 | 500.0 |