干涉顯微鏡的主要類型

干涉顯微鏡分為雙光束和多光束兩類，采用通過樣品內和樣品外的相干光束產生干涉的方法，把相位差(或光程差)轉換為振幅（光強度）變化的顯微鏡，根據干涉圖形可分辨出樣品中的結構，并可測定樣品中一定區域內的相位差或光程差，通常測定工件加工光潔度及高度差約為1/10波長的顯微組織可采用雙光束干涉顯微鏡，林尼克干涉顯微鏡即屬這一類。

而多光束干涉顯微鏡能顯示試樣表面相鄰兩點為l/1 000波長的高度差，因此在金相組織的分析中有重要意義。