一、掃描電子顯微鏡SEM工作原理
掃描電子顯微鏡SEM是用聚焦電子束在試樣表面逐點掃描成像。試樣為塊狀或粉末顆粒，成像信號可以是二次電子、背散射電子或吸收電子。其中二次電子是最主要的成像信號。由電子槍發射的能量為5-35KeV的電子，以其交叉斑作為電子源，經二級聚光鏡及物鏡的縮小形成具有一定能量、一定束流強度和束斑直徑的細微電子束，在掃描線圈驅動下，于試樣表面按一定時間、空間順序作柵網式掃描。聚焦電子束與試樣相互作用，產生二次電子發射（以及其它物理信號），二次電子發射量隨試樣表面形貌而變化。二次電子信號被探測器收集轉換成電訊號，經視頻放大后輸入到顯像管柵極，調制與入射電子束同步掃描的顯像管亮度，得到反映試樣表面形貌的二次電子像。
二、掃描電子顯微鏡SEM特點
1.可以觀察大塊試樣，制樣方法簡單
2.場深大、三百倍于光學顯微鏡，適用于粗糙表面和斷口的分析觀察；圖像富有立體感
3.放大倍數變化范圍大
4.高分辨率
5.可以通過電子學方法有效控制和改善圖像的質量，如通過調制可改善圖像反差的寬容度，使圖像各部分亮暗適中。
6.可進行多種功能分析。
三、掃描電子顯微鏡SEM主要結構
1.電子光學系統：電子槍；電磁透鏡（第一、第二聚光鏡和物鏡）；物鏡光闌
2.掃描系統：掃描信號發生器；掃描放大控制器；掃描偏轉線圈
3.信號探測放大系統：探測二次電子、背散射電子等電子信號（物理信號）。
4.圖像顯示和記錄系統：早期SEM采用顯像管、照相機等。數字式SEM采用電腦系統進行圖像顯示和記錄管理。
5.真空系統：真空度高于5X10*-5Torr。常用：機械真空泵、擴散泵、渦輪分子泵
6.電源系統：高壓發生裝置、高壓油箱
以上就是從掃描電子顯微鏡SEM的工作原理、主要結構及SEM特點來介紹掃描電子顯微鏡，目前掃描電鏡被廣泛用于材料科學、冶金、生物學、醫學、半導體材料與器件、地質勘探、病蟲害的防治、災害鑒定、寶石鑒定、工業生產中的產品質量鑒定及生產工藝控制等。