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  • 發布時間:2021-06-25 22:21 原文鏈接: 斐索干涉儀的光路和設計

      在光學元件加工時,可使用這些儀器來檢查和測量光學元件的光學表面的質量,如平面度及其局部缺陷與誤差等。干涉儀的光源S可采用準單色光源(如汞光燈、鈉光燈),發出的光經半透半反射鏡P和透鏡L,投射到標準平晶Q與待測光學元件G的夾層處;在O處可觀察到等厚干涉條紋,由這些條紋的微小彎曲形狀來判斷待測光學平面的不平度。此干涉儀普遍使用激光作為光源,由于激光的單色性好、相干性好,因此標準平晶Q與待測光學元件G之間的距離可拉開,這樣可大大方便檢測操作;而且可獲得亮度大、對比度好的干涉條紋,從而提高了測量精度和測量范圍。

      如果將標準平晶改換成標準球面樣板透鏡,即可構成球面干涉儀,用于檢測球面的球面度及其局部缺陷與誤差等。這里,利用了被測凹面鏡的表面和與其曲率半徑相當的標準樣板透鏡表面的兩支反射光形成的牛頓環條紋。假若被測球面和標準球面完全相同,則條紋消失,呈現均勻的光場;如果出現的條紋是一些完整的同心圓環,則表示被測球面沒有局部缺陷,但與標準球面的曲率半徑有偏差

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