斐索干涉儀是一種原理為等厚干涉，用以檢測光學元件的面形、光學鏡頭的波面像差以及光學材料均勻性等的精密儀器。其測量精度一般為/10～/100,為檢測用光源的平均波長。
干涉儀的一種類型。由斐索(H．Fi zeau1819—1896)研究而得名。光路見圖1，點光源S的光線經準直后，近乎正入射地照射被觀察透明物體，光線在物體上下表面間多次反射，并從反射方向S'處觀察干涉條紋。光學工廠用這種千涉儀來檢驗透明平行平板的光學厚度的均勻性。
