據悉，全球最先進的光刻機廠商ASML正在開發一款新版本的EUV光刻機，研制成功后它將是世界上最先進的芯片制造設備。
該光刻機名為High NA，目前第一臺機器正在研發之中，預計搖到2023年才會提供先行體驗，可以讓芯片制造商更快地學習如何使用。客戶可以在 2024 年和 2025 年將以此進行自己的研發工作。從 2025 年開始，它們很可能用于大批量制造。
新款NA光刻機可以制造出更復雜的芯片，光刻機是生產芯片最重要的工具，也是生產大規模集成電路的核心設備，決定著芯片工藝。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。EUV光刻機如今名氣巨大，其實推出時間并不長。
雖然NA光刻機還未面世，但已經受到了全球芯片廠的關注，英特爾首席執行官此前就表示，英特爾有望成為ASML新機器的第一個使用者。
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