(1)柱后衍生反應系統既能夠一體化設計,也能夠分體設計。
(2)既能夠電腦溫控設定、記錄,也能夠單獨面板按鍵控溫設定。
(3)先進的半導體制冷技術為柱后衍生冷卻系統所采用,高溫度的反應液在高精度的溫控儀的作用下能夠被降低到0-室溫,任意可調。
(4)±0.3攝氏度為控溫精度。