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  • 發布時間:2022-11-04 14:26 原文鏈接: 根據缺陷的作用范圍對真實晶體缺陷進行分類

    點缺陷:在三維尺寸均很小,只在某些位置發生,只影響鄰近幾個原子。

    線缺陷:在二維尺寸小,在另一維尺寸大,可被電鏡觀察到。

    面缺陷:在一維尺寸小,在另二維尺寸大,可被光學顯微鏡觀察到。

    體缺陷:在三維尺寸較大,如鑲嵌塊,沉淀相,空洞,氣泡等。


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