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  • 發布時間:2023-02-22 12:17 原文鏈接: 物理氣相沉積三個基本要素是什么

    1、鍍料的氣化。即使鍍料蒸發,升華或被濺射,也就是通過鍍料的氣化源。
    2、鍍料原子、分子或離子的遷移。由氣化源供出原子、分子或離子經過碰撞后,產生多種反應。
    3、鍍料原子、分子或離子在基體上沉積。物理氣相沉積技術工藝過程簡單,對環境改善,無污染,耗材少,成膜均勻致密,與基體的結合力強。該技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域,可制備具有耐磨、耐腐蝕、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。

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