電子束曝光系統

　　電子束曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復印圖形的技術，它的特點是分辨率高（極限分辨率可達到3～8μm）、圖形產生與修改容易、制作周期短。它可分為掃描曝光和投影曝光兩大類，其中掃描曝光系統是電子束在工件面上掃描直接產生圖形，分辨率高，生產率低。投影曝光系統實為電子束圖形復印系統，它將掩模圖形產生的電子像按原尺寸或縮小后復印到工件上，因此不僅保持了高分辨率，而且提高了生產率。