芯片生產廢水如何分類處理

芯片廢水分類
將生產廢水處理分為：含氨廢水處理系統、含氟廢水處理系統、CMP研磨廢水處理系統及酸堿廢水處理系統
處理工藝
3.1 二級反應+一級助凝十一級沉淀，系統出水氟離子濃度基本達到<Zomg/L要求;若增加一級沉淀，即用二級反應+沉淀+一級反應+沉淀的兩階段沉淀反應，系統出水氟離子濃度可控制在10mg/L以下。
3.2 濃氨吹脫吸收工藝—含氟廢水兩階段沉淀工藝(含氟廢水與CMP研磨廢水混合處理)—三級酸堿中和處理工藝。
3.3 兩級反應池、酸堿原液直接投加，運行出水不穩定且藥劑消耗量很大。
3.4反沖洗過濾器，是一種利用濾網直接攔截水中的雜質，去除水體懸浮物、顆粒物，降低濁度，凈化水質，減少系統污垢、菌藻、銹蝕等產生，以凈化水質及保護系統其他設備正常工作的設備。經反沖洗過濾器處理后的水質不但達到了國家規定的廢水排放標準，經反沖洗過濾器處理后的水源可重復、循環利用有效的節省了水資源。