材料能譜分析
主要包括X射線光電子能譜XPS和俄歇電子能譜法AES（1）X射線光電子能譜(X-ray Photoelectron Spectroscopy, XPS)X射線光電子能譜(XPS )就是用X射線照射樣品表面，使其原子或分子的電子受激而發射出來，測量這些光電子的能量分布，從而獲得所需的信息。隨著微電子技術的發展，XPS也在不斷完善，目前，已開發出的小面積X射線光電子能譜，大大提高了XPS的空間分辨能力。通過對樣品進行全掃描，在一次測定中即可檢測出全部或大部分元素。因此，XPS已發展成為具有表面元素分析、化學態和能帶結構分析以及微區化學態成像分析等功能強大的表面分析儀器。X射線光電子能譜的理論依據就是愛因斯坦的光電子發散公式。XPS作為研究材料表面和界面電子及原子結構的最重要手段之一，原則上可以測定元素周期表上除氫、氦以外的所有元素。其主要功能及應用有三方面:第一，可提供物質表面幾個原子層的元素定性、定量信息和化學狀態信息；第......閱讀全文
【材料課堂】材料的電鏡能譜(EDS)分析技術
如果要分析材料微區成分元素種類與含量，往往有多種方法，打能譜就是我們最常用的手段。 能譜具有操作簡單、分析速度快以及結果直觀等特點，最重要的是其價格相比于高大上的電鏡來說更為低廉，因此能譜也成為了目前電鏡的標配。 今天這篇文章集齊了有關能譜（EDS）的各種問題，希望能給大家帶來幫助。 Q1
材料的電鏡能譜(EDS)分析技術
如果要分析材料微區成分元素種類與含量，往往有多種方法，打能譜就是我們最常用的手段。 能譜具有操作簡單、分析速度快以及結果直觀等特點，最重要的是其價格相比于高大上的電鏡來說更為低廉，因此能譜也成為了目前電鏡的標配。 今天這篇文章集齊了有關能譜（EDS）的各種問題，希
經典材料分析七種方法：成分，光譜，質譜 ，能譜
材料的逆向分析是現行材料研發中的重要的手段，也是實現材料研發中的最經濟、最有效的的研發手段。如何實現材料的逆向分析，從認識材料的分析儀器著手。 成分分析簡介 成分分析技術主要用于對未知物、未知成分等進行分析，通過成分分析技術可以快速確定目標樣品中的各種組成成分是什么，幫助您對樣品進行定性定量
俄歇電子能譜儀對材料失效分析簡介
俄歇電子能譜儀具有很高表面靈敏度 , 在材料表面分析測試方面有著不可替代的作用。通過正確測定和解釋 AES 的特征能量、強度、峰位移、譜線形狀和寬度等信息 , 能直接或間接地獲得固體表面的組成、濃度、化學狀態等多種信息 , 所以在國內外材料表面分析方面 AES 技術得到廣泛運用 。 材料失效分
高能X射線能譜測量中衰減材料特性影響
基于衰減透射原理的高能X射線能譜測量,采用蒙特卡羅成像模擬的方法研究衰減材料選擇對能譜準確穩定重建的影響。設計多孔準直模型模擬X射線穿過不同衰減材料的透射過程,并在單次成像中獲得完整的衰減透射率曲線。由衰減透射率求解能譜是一種病態條件問題,采用改進的迭代擾動法進行解譜,計算時考慮透射率計算值與真實值
能譜儀
能譜儀(EDS,Energy Dispersive Spectrometer)是用來對材料微區成分元素種類與含量分析，配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。
能譜儀
原理編輯各種元素具有自己的X射線特征波長，特征波長的大小則取決于能級躍遷過程中釋放出的特征能量△E，能譜儀就是利用不同元素X射線光子特征能量不同這一?[1]??特點來進行成分分析的。性能指標編輯固體角：決定了信號量的大小，該角度越大越好檢出角：理論上該角度越大越好探頭：新型硅漂移探測器（SDD）逐步
俄歇電子能譜儀在材料分析中的應用
俄歇電子能譜儀(AES)是建立在電子技術、弱信號檢測技術和超高真空技術基礎上的一種研究材料表面組成元素的新型分析儀器。本文介紹了俄歇電子能譜技術的基本原理、技術發展和樣品制備技術,重點介紹了俄歇電子能譜儀在材料分析(失效分析、表面分析、微區分析等)方面的應用。俄歇電子能譜儀在材料表面性質研究方面,有
幾種半導體材料的光電子能譜研究
ZnO薄膜的光電子能譜研究表明:1)對某些條件下生長的薄膜,光致發光譜中存在的綠光發光峰來源于薄膜中介于Vo和Oi中間價態的氧;2)對首次利用濺射夾層GaAs方法制備的As摻雜的ZnO薄膜,O2下退火比較容易控制As的價態,有利于形成p型摻雜。首次采用ErF3到Alq3中的方法制作了1.53μm電發
什么是能譜儀？能譜儀的原理簡介
能譜儀(EDS,Energy Dispersive Spectrometer)是用來對材料微區成分元素種類與含量分析，配合掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡的使用。 原理 各種元素具有自己的X射線特征波長，特征波長的大小則取決于能級躍遷過程中釋放出的特征能量△E，能譜儀就是利用不同元素X射線光子