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  • 發布時間:2016-04-20 11:09 原文鏈接: 300mm晶圓勻膠顯影設備研發成功

       4月14日,“極大規模集成電路制造裝備及成套工藝”國家科技重大專項“300mm晶圓勻膠顯影設備研發”任務圓滿完成,突破了193nm光刻工藝超薄膠膜均勻涂敷等多項關鍵核心技術,成功研制出具有自主知識產權的300mm晶圓勻膠顯影設備考核測試機和上線示范應用機,并在項目實施期間銷售5臺勻膠顯影設備。標志著我國前道芯片制程領域用涂膠顯影設備的國產化又邁出了重要的一步,不僅填補了國內技術空白、打破國外長期壟斷,也為我國前道芯片制程涂膠顯影設備進入前段市場打開了突破口。

       據研發人員介紹,“該項目成果產品的成功應用,將大大降低客戶采購成本和對國外設備的依賴性,價格較國外同類產品低20%到30%,企業獲得的售后技術支持也更加給力。” 目前,該項目共性技術可成功輻射應用于高端封裝、LED等技術設備領域,對該類設備產能和穩定性具有極大的提升作用。

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