透射電子顯微鏡的中間鏡和投影鏡的介紹
中間鏡（intemediate lens）和投影鏡（projection lens） 在物鏡下方，依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡，以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看，它們都是相類似的電磁透鏡，但由于各自的位置和作用不盡相同，故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相同。電鏡總放大率： M=MO·MI·MP1·MP2 即為物鏡、中間鏡和投影鏡的各自放大率之積。當電鏡放大率在使用中需要變換時，就必須使它們的焦距長短相應做出變化，通常是改變靠中間鏡和第1投影鏡線圈的勵磁工作電流來達到的。電鏡操縱面板上放大率變換鈕即為控制中間鏡和投影鏡的電流之用。 對中間鏡和投影鏡這類放大成像透鏡的主要要求是：在盡可能縮短鏡筒高度的條件下，得到滿足高分辨率所需的最高放大率，以及為尋找合適視野所需的最低放大率；可以進行電子衍射像分析，做選區衍射和小角度衍射等特殊觀察；同樣也希望它們的像差、畸變和軸上像散都盡可能地小。......閱讀全文
透射電子顯微鏡的中間鏡和投影鏡的介紹
中間鏡（intemediate lens）和投影鏡（projection lens） 在物鏡下方，依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡，以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看，它們都是相類似的電磁透鏡，但由于各自的位置和作用不盡相同，故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相同。電鏡
關于透射電子顯微鏡的中間鏡和投影鏡的介紹
中間鏡（intemediate lens）和投影鏡（projection lens） 在物鏡下方，依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡，以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看，它們都是相類似的電磁透鏡，但由于各自的位置和作用不盡相同，故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相同。電鏡
透射電鏡中間鏡和投影鏡的介紹
中間鏡（intemediate lens）和投影鏡（projection lens） 在物鏡下方，依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡，以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看，它們都是相類似的電磁透鏡，但由于各自的位置和作用不盡相同，故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相同。電鏡
TEM中間鏡和投影鏡
中間鏡（intemediate lens）和投影鏡（projection lens）????????在物鏡下方，依次設有中間鏡和第1投影鏡、第2投影鏡，以共同完成對物鏡成像的進一步放大任務。從結構上看，它們都是相類似的電磁透鏡，但由于各自的位置和作用不盡相同，故其工作參數、勵磁電流和焦距的長短也不相
透射電子顯微鏡中物鏡和中間鏡各處什么位置
物鏡：位于物鏡消像散線圈和選區光闌之間，作用是改變襯度，消除像散，防止污染以獲得最佳的分辨本領。 中間鏡：位于選區光闌和高分辨室之間，作用是將來自物鏡的圖像進一步放大。
投影鏡的功能介紹
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
關于透射電子顯微鏡的聚光鏡的介紹
聚光鏡處在電子槍的下方，一般由2～3級組成，從上至下依次稱為第1、第2聚光鏡（以C1 和C2表示）。關于電磁透鏡的結構和工作原理已經在上一節中介紹，電鏡中設置聚光鏡的用途是將電子槍發射出來的電子束流會聚成亮度均勻且照射范圍可調的光斑，投射在下面的樣品上。C1和C2的結構相似，但極靴形狀和工作電流
關于透射電子顯微鏡的聚光鏡的介紹
聚光鏡處在電子槍的下方，一般由2～3級組成，從上至下依次稱為第1、第2聚光鏡（以C1 和C2表示）。關于電磁透鏡的結構和工作原理已經在上一節中介紹，電鏡中設置聚光鏡的用途是將電子槍發射出來的電子束流會聚成亮度均勻且照射范圍可調的光斑，投射在下面的樣品上。C1和C2的結構相似，但極靴形狀和工作電流
透射電子顯微鏡聚光鏡相關介紹
聚光鏡處在電子槍的下方，一般由2～3級組成，從上至下依次稱為第1、第2聚光鏡（以C1 和C2表示）。關于電磁透鏡的結構和工作原理已經在上一節中介紹，電鏡中設置聚光鏡的用途是將電子槍發射出來的電子束流會聚成亮度均勻且照射范圍可調的光斑，投射在下面的樣品上。C1和C2的結構相似，但極靴形狀和工作電流
透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學?、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液
透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學? 、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于
透射電子顯微鏡的功能介紹
透射電子顯微鏡(Transmission Electron Microscope，簡稱TEM)，可以看到在光學顯微鏡下無法看清的小于0.2um的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構或超微結構。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，以提高顯微鏡的分辨率。1932年Ruska發明了以電子束為光源的透射
透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學 、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于液
透射電子顯微鏡的功能介紹
因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿，可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中，圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需
透射電子顯微鏡的功能介紹
因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿，可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中，圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需
投影鏡的定義
中文名稱投影鏡英文名稱projection lens定 義將物或第一次像放大成像并投影在屏上的透鏡。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
透射電子顯微鏡的應用和發展
①晶體缺陷分析 廣義的講，一切破壞正常點陣周期的結構均稱為晶體缺陷，如空位、位錯、晶界、析出物等。這些破壞點陣周期性的結構都將導致其所在區域的衍射條件發生變化，使得缺陷所在區域的衍射條件不同于正常區域的衍射條件，從而在熒光屏上顯示出相應明暗程度的差別。 ②組織分析 除了各種缺陷可以產生不同的衍
透射電子顯微鏡
1、基本原理 在光學顯微鏡下無法看清小于0.2μm的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構（submicroscopic structures）或超微結構（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，
透射電子顯微鏡
因電子束穿透樣品后，再用電子透鏡成像放大而得名。它的光路與光學顯微鏡相仿，可以直接獲得一個樣本的投影。通過改變物鏡的透鏡系統人們可以直接放大物鏡的焦點的像。由此人們可以獲得電子衍射像。使用這個像可以分析樣本的晶體結構。在這種電子顯微鏡中，圖像細節的對比度是由樣品的原子對電子束的散射形成的。由于電子需
透射電子顯微鏡
1、基本原理在光學顯微鏡下無法看清小于0.2μm的細微結構，這些結構稱為亞顯微結構（submicroscopic structures）或超微結構（ultramicroscopic structures；ultrastructures）。要想看清這些結構，就必須選擇波長更短的光源，以提高顯微鏡的分辨
透射電子顯微鏡
透射電子顯微鏡，簡稱透射電鏡，英文名為Transmission Electron Microscope，縮寫為TEM，是一種利用高速運動的電子束作為光源，穿透固體樣品，再經過電磁透鏡成像的顯微鏡。透射電鏡由電子光學系統、觀察記錄系統、真空和冷卻系統以及電源系統等組成。電子光學系統又可分為照明系統和成
透射電子顯微鏡分類的相關介紹
大型透射電鏡 大型透射電鏡（conventional TEM）一般采用80-300kV電子束加速電壓，不同型號對應不同的電子束加速電壓，其分辨率與電子束加速電壓相關，可達0.2-0.1nm，高端機型可實現原子級分辨。 低壓透射電鏡 低壓小型透射電鏡（Low-Voltage electron
透射電子顯微鏡的結構原理介紹
透射電鏡的總體工作原理是：由電子槍發射出來的電子束，在真空通道中沿著鏡體光軸穿越聚光鏡，通過聚光鏡將之會聚成一束尖細、明亮而又均勻的光斑，照射在樣品室內的樣品上；透過樣品后的電子束攜帶有樣品內部的結構信息，樣品內致密處透過的電子量少，稀疏處透過的電子量多；經過物鏡的會聚調焦和初級放大后，電子束進
關于透射電子顯微鏡的研究介紹
第二次世界大戰之后，魯斯卡在西門子公司繼續他的研究工作。在這里，他繼續研究電子顯微鏡，生產了第一臺能夠放大十萬倍的顯微鏡。這臺顯微鏡的基本設計仍然在今天的現代顯微鏡中使用。第一次關于電子顯微鏡的國際會議于1942年在代爾夫特舉行，參加者超過100人。隨后的會議包括1950年的巴黎會議和1954年
掃描透射電子顯微鏡的功能介紹
掃描透射電子顯微鏡(scanning transmission electron microscopy，STEM)既有透射電子顯微鏡又有掃描電子顯微鏡的顯微鏡。STEM用電子束在樣品的表面掃描，通過電子穿透樣品成像。STEM技術要求較高，要非常高的真空度，并且電子學系統比TEM和SEM都要復雜。
關于透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對于
關于透射電子顯微鏡的應用介紹
透射電子顯微鏡在材料科學]、生物學上應用較多。由于電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，樣品的密度、厚度等都會影響到最后的成像質量，必須制備更薄的超薄切片，通常為50～100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時的樣品需要處理得很薄。常用的方法有：超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對
透射電子顯微鏡的成像原理介紹
透射電子顯微鏡?結構包括兩大部分：主體部分為照明系統、成像系統和觀察照相室;輔助部分為真空系統和電氣系統。1、照明系統該系統分成兩部分：電子?槍和會聚鏡。電子槍由燈絲(陰極)、柵級和陽極組成。加熱燈絲發射電子束。在陽極加電壓，電子加速。陽極與陰極間的電位差為總的加速電壓。經加速而具有能量的電子從陽極
關于透射電子顯微鏡的組件介紹
透射電子顯微鏡系統由以下幾部分組成： 1、透射電子顯微鏡的組件—電子槍：發射電子，由陰極、柵極、陽極組成。陰極管發射的電子通過柵極上的小孔形成射線束，經陽極電壓加速后射向聚光鏡，起到對電子束加速、加壓的作用。 2、透射電子顯微鏡的組件—聚光鏡：將電子束聚集，可用于控制照明強度和孔徑角。 3
關于透射電子顯微鏡的這場介紹
透射電子顯微鏡最常見的操作模式是亮場成像模式。在這一模式中，經典的對比度信息根據樣品對電子束的吸收所獲得。樣品中較厚的區域或者含有原子數較多的區域對電子吸收較多，于是在圖像上顯得比較暗，而對電子吸收較小的區域看起來就比較亮，這也是亮場這一術語的來歷。圖像可以認為是樣品沿光軸方向上的二維投影，而且