AFM微影操控術

微影操控術(Nanolithography and Nanoma nipulation)Lithography

(微影) 及ma nipulation (操控術)是目前相當熱門的研究題目。多年以來Lithography 應用力量及電流方式，已可在材料表面刻出或長出不同尺寸納米圖案。目前研究上是針對(1)如何劃出100nm 級圖案，10nm 級線寬(2)圖案穩定性及操控性等工程議題。此兩議題在設備上，目前可以使用封閉式回路控制掃瞄器(Close loopscanner)解決。Lithography 的要求均必需達到及時性，表示AFM 掃瞄時，欲將某物從a移動至b 時，可在移動后馬上掃瞄，期間探針無需重新下探針動作，及時性就非常重要。目前挑戰的題目如納米級定位修補，表面重組，生化上強制接種加速實驗。1990年，IBM 公司的科學家展示了一項令世人瞠目結舌的成果，他們在金屬鎳表面用35 個惰性氣體氙原子組成“IBM”三個英文字母如圖1-10。科學家在試驗中發現STM 的探針不僅能得到原子圖象，而且可以將原子在一個位置吸住，再搬運到另一個地方放下。這可真是個了不起的發現，因為這意味著人類從此可以對原子進行操縱。