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  • 發布時間:2022-02-15 10:36 原文鏈接: EPMA和EMPA區別

    一.電子顯微探針分析
      EMPA--Electron microprobe analysis
    基本原理
      電子顯微探針是指用聚焦很細的電子束照射要檢測的樣品表面,用X射線分光譜儀測量其產生的特征X射線的波長和強度。由于電子束照射面積很小,因而相應的X射線特征譜線將反映出該微小區域內的元素種類及其含量。   利用特征X射線波長來確定元素的叫做波譜儀(WDS),利用特征X射線能量不同來展譜的就稱為能譜儀(EDS)。
    電子探針
      利用電子顯微探針原理和技術來分析樣品的儀器。   儀器構造:主要由電子光學系統(鏡筒),X射線譜儀和信息記錄顯示系統組成。   1.電子光學系統   為了提高X射線的信號強度,電子探針必須采用較掃描電鏡更高的入射電子束流,常用的加速電壓為10-30 KV,束斑直徑約為0.5μm。電子探針在鏡筒部分加裝光學顯微鏡,以選擇和確定分析點 。   2.X射線譜儀   電子束轟擊樣品表面將產生特征X射線,不同的元素有不同的X射線特征波長和能量。通過鑒別其特征波長或特征能量就可以確定所分析的元素。利用特征波長來確定元素的儀器叫做波長色散譜儀(波譜儀WDS),利用特征能量的就稱為能量色散譜儀(能譜儀EDS)。
    電子探針的分析方法
      1.點分析:用于測定樣品上某個指定點的化學成分。   2.線分析:用于測定某種元素沿給定直線分布的情況。   將WDS、EDS固定在所要測量的某元素特征X射線信號(波長或能量)的位置上,把電子束沿著指定的方向做直線掃描,便可得到該元素沿直線特征X射線強度的變化,從而反映了該元素沿直線的濃度分布情況。   3.面分析:用于測定某種元素的面分布情況。   將WDS、EDS固定在信號位置上,電子束在樣品表面做二維光柵掃描,便可得到該元素的面分布圖像。

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