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  • 發布時間:2020-10-12 13:47 原文鏈接: GaN:實現5G的關鍵技術

    日前,由 EETOP 聯合 KEYSIGHT 共同舉辦的“2020 中國半導體芯動力高峰論壇”隆重舉行。Qorvo 無線基礎設施部門高級應用工程師周鵬飛也受邀參與了這次盛會,并發表了題為《實現 5G 的關鍵技術—— GaN》的演講。

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    首先,周鵬飛給我們介紹了無線基礎設施的發展。他表示,每一代移動通信的發展大約都會經歷 10 年左右的發展周期。而今年是 5G 元年,我們也能正式進入了 5G 時代。

     

    “與 4G 相比,5G 頻率比較高,因此為了實現相同的網絡覆蓋, 5G 基站的數量需要達到 4G 的三到五倍。統計數據顯示:在去年,僅在國內就部署了 17 萬個 5G 宏基站,今年預計部署約 60 萬個基站”,周鵬飛說。

     

    根據應用需求,5G 基站不僅要滿足高速率、大容量、廣覆蓋、低延時等要求,同時還要滿足低功耗,低成本等要求,這就讓5G 基站不得不面對功耗,覆蓋,成本以及殺手級應用市場在短期內還難以解決等難題。

     

    為了解決上述問題,就給相關射頻器件帶來了新的機遇和挑戰。

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    周鵬飛表示,氮化鎵是 5G 時代的一個理想半導體材料。但這并非意味著完全替代第一代和第二代半導體工藝。

     

    在他看來,基帶處理芯片依舊會以 CMOS 為主導,小功率芯片還會采用 GaAs 工藝,這些工藝不僅成熟,而且成本低,完全可以滿足基站系統中基帶和小信號部分的要求。

     

    “但作為末級功放,不僅影響著覆蓋范圍,同時也與整機系統效率緊密相關。隨著 EIRP 的提高,GaN 與其它工藝相比,具有先天的一些優勢:比如高功率密度,高效率和大帶寬等優勢。”周鵬飛接著說。

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    “如下圖所示,與其他材料相比,在相同的 EIRP 的情況下,GaN在功耗,系統成本甚至設計復雜度等方面都有著其他材料無可比擬的優勢”,周鵬飛說。

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    “高功率密度是 GaN 最大的優勢,所以開發者能基于此在比較小的尺寸上開發出更高功率的器件”,周鵬飛進一步指出。

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    “在 Sub-6Ghz 頻段,PA 還是獨立在 FEM 之外,但到了毫米波頻段,有可能需要把 PA、LNA 和 Switch 等器件都集成到一個 FEM 里面,這種高集成度的 FEM 需要 MMIC 方案才能實現,GaN 材料可以實現更小尺寸,更大功率的 PA,更低噪聲的 LNA,更小插損的 Switch, 所以針對毫米波頻段,用氮化鎵來開發 FEM 就非常適用”,周鵬飛表示。

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    他進一步指出,從 4G 走向 5G,GaN PA 將完全取代 LDMOS 器件,這是因為其擁有高效、高功率、高導熱系數和大帶寬等優勢,非常適合 5G 的應用。但與此同時,有人指出,與 LDMOS 相比,單顆氮化鎵器件的成本相對較高。

     

    針對這個觀點,周鵬飛在演講中指出,在 5G 應用上,氮化鎵和 LDMOS 器件的成本相差不遠,因為這些器件的最大成本不是在 die 上,而是在管殼上。他表示,目前在 Massive MIMO 上應用的 GaN PA,由于單通道的功率并不高,基本都采用了低成本的塑封,所以成本不會太高。

     

    “隨著 5G 海量出貨,以及后續 wafer 技術更新為 6 英寸,成本將會進一步降低”,周鵬飛接著說。

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    從襯底方面看,當前主流的氮化鎵襯底有硅襯底和 SiC 襯底兩種方案,目前大部分廠商都是使用 SiC 襯底的氮化鎵。在周鵬飛看來,這兩種不同襯底氮化鎵的最大區別在于“熱”,熱耗是最難處理的問題之一。

     

    從下圖我們也可以看到,GaN on SiC 比 GaN on Si 有熱、溝道溫度和壽命方面的優勢。

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    從氮化鎵材料本身特性來看,氮化鎵的器件也有和其他”競爭對手”所不具備的優勢,具體如下圖所示。

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    GaN on SiC 的優勢也能從下圖中一覽無遺。其高帶寬、高效和高功率特性可以幫助客戶做出更小尺寸的器件,進而幫助打造更小、更簡單、更輕,且成本更低的系統。

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    “得益于各個國家和地區對 5G 的布局,5G 網絡基礎設施在未來幾年將會獲得快速的增長,這就給相關的射頻器件供應商帶來了機遇”,周鵬飛說。

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    作為業界領先的射頻供應商,Qorvo 在氮化鎵技術方面有深厚的積累。這些不同的工藝有不同的技術優勢,也被應用到不同的場景當中。

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    “如 QGaN15 是瞄準高帶寬的微波和Ka波段的產品,QGaN25 則聚焦在 X 和 Ku 波段,QGaN25HV 則盯著 L 和 S 波段的產品,QGaN50 生產的產品則更適用于 UHF 和 C 波段的頻率”,周鵬飛說。

     

    “Qorvo 氮化鎵器件的 MTTF 在 200C 的情況下,可以達到 10 的七次方小時,足以說明 Qorvo 氮化鎵器件在可靠性方面的優勢”,周鵬飛進一步強調。

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    據周鵬飛介紹,除了氮化鎵以外,Qorvo 還擁有 GaAs、SOI,BAW, SAW 和 RF CMOS 等多種其他制程方面技術,公司同時在封測和規模效應方面也有領先的優勢,這讓其成為了全球領先的氮化鎵射頻器件供應商。

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    得益于這些技術積累,Qorvo面向 Sub-6Ghz 領域提供了極具競爭力的射頻前端方案。

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    針對末級 GaN PA,Qorvo 更是提供了 Discrete 和 DPAM 等多樣化的方案,以供客戶選擇。

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