| 儀器名稱： | ICP刻蝕機-F |
| 儀器編號： | 13015108 |
| 產地： | 日本 |
| 生產廠家： | 愛發科 |
| 型號： | NE-550H(F) |
| 出廠日期： | 201211 |
| 購置日期： | 201309 |
| 所屬單位： | 集成電路學院>微納加工平臺>刻蝕工藝 |
| 放置地點： | 微電子所新所一層微納平臺（暨微納技術實驗室） |
| 固定電話： | |
| 固定手機： | |
| 固定email： | |
| 聯系人： | 竇維治（010-62781090,13366273985,douwz@tsinghua.edu.cn） 李希有（010-62784044,13641166426,lxyou@mail.tsinghua.edu.cn） |
| 分類標簽： | 半導體 微納加工 集成電路 刻蝕 |
| 技術指標： | 介電材料刻蝕：ICP模式；刻蝕精度：0.35微米 |
| 知名用戶： | 王喆垚、任天令、劉澤文、吳華強、梁仁榮、潘立陽、王敬、許軍、鄧寧、錢鶴、伍曉明（微電子所） 尤政、朱榮、阮勇（精儀系）、羅毅（電子系）、姚文清（化學系） |
| 技術團隊： | 吳華強、伍曉明、劉朋、李希有、仲濤 |
| 功能特色： | 自動化操作，刻蝕方式： ICP模式；刻蝕精度：0.35微米；主要刻蝕介質：Si3N4、Si、POLY-Si、SiO2等材料.刻蝕尺寸：6英寸、4英寸。均勻性小于5%。 |
| 項目名稱 | 計價單位 | 費用類別 | 價格 | 備注 |
|---|---|---|---|---|
| 介質刻蝕 | 元/小時 | 自主上機機時費 | 800.0 | |
| 送樣刻蝕 | 元/小時 | 測試費 | 800.0 |