鑭氧薄膜表面均一性研究

利用脈沖激光沉積裝置在鉬筒上沉積鑭氧膜,通過俄歇能譜儀確定其表面成分并進行定量分析,結合掃描電鏡對薄膜進行形貌觀察和能譜分析。實驗結果表明,本方法制備的薄膜污染小,表面不同區域成分均勻分布,發射性能測量后薄膜均一性保持良好。綜合實驗證明激光沉積能夠制備均一性良好的鑭氧薄膜。