聚焦前沿技術共探半導體痕量成分檢測新路徑

　　2025年7月17日，“質析毫微?譜繪萬象”半導體痕量成分檢測技術交流會在中國科學院上海應用物理研究所學術交流中心隆重舉行。本次會議由中國物理學會質譜分會、北京雪迪龍科技股份有限公司聯合主辦，中國科學院上海應用物理研究所、分析測試百科網、中國儀器儀表學會分析儀器分會質譜儀器專家組協辦，吸引了眾多科研院所、高校專家學者，半導體產業鏈企業技術負責人，檢測儀器研發精英等齊聚一堂，共同探討半導體檢測技術的前沿動態與國產化發展之路。

半導體痕量成分檢測技術交流會參會人員合影

半導體痕量成分檢測技術交流會

　　會議伊始，分析測試百科網總經理卞利萍女士作為本次盛會的主持人，用飽滿的熱情迎接各位與會嘉賓。隨后，中國物理學會質譜分會理事長方向、上海市科委科技基礎設施與平臺建設處處長張露璐、北京雪迪龍科技股份有限公司董事長敖小強以及中國科學院上海應用物理研究所所務委員黃鶴飛依次上臺發表精彩致辭，為本次會議拉開帷幕。

中國物理學會質譜分會理事長 方向

　　中國物理學會質譜分會理事長方向在致辭中強調，質譜技術在我國材料、半導體以及生命科學等諸多領域都具有極為重要的意義，而近年來質譜技術的國產化替代和突破已成為各界關注的焦點。方向提到，我國在推動質譜技術國產化方面已取得重要進展，得到了國家的大力支持，眾多企業家懷著責任感和使命感，抓住市場機遇，推動國產質譜技術的發展。

北京雪迪龍科技股份有限公司董事長 敖小強

　　北京雪迪龍科技股份有限公司董事長敖小強，強調了此次研討會對于雪迪龍而言意義非凡，尤其是與中國科學院上海應用物理研究所共同成立飛行時間二次離子質譜上海應用中心，這不僅是雪迪龍與科研院所的一次重要合作，也是推動國產科學儀器發展的重要一步。雪迪龍作為行業領軍企業，致力于推動國產儀器的研發與產業化，助力半導體檢測技術的自主可控。他希望通過此次研討會，與各位專家共同探討如何推動高端科學儀器發展，特別是在半導體相關設備領域。

中國科學院上海應用物理研究所所務委員 黃鶴飛

　　中國科學院上海應用物理研究所所務委員黃鶴飛在會上致辭，對與會嘉賓表示歡迎，并感謝主辦及協辦單位對會議的支持。上海應用物理研究所自成立以來，始終以國家戰略需求為導向，深耕核科學技術與新能源領域，已成為國際領先的釷基熔鹽堆研發中心。研究所的分析測試中心以二次離子質譜（SIMS）為代表的痕量成分檢測平臺，長期服務于半導體材料和新能源器件等領域。黃鶴飛強調，高端檢測儀器的國產化對于保障我國產業鏈安全至關重要，研究所將與各方攜手，推動技術創新與產業升級。

分析測試百科網總經理卞利萍主持本次會議

　　在開幕致辭之后，舉行了一場意義非凡的揭牌儀式。北京雪迪龍科技股份有限公司與中國科學院上海應用物理研究所攜手共建“飛行時間二次離子質譜上海應用中心”。這一合作標志著產學研深度融合邁出了堅實一步，為我國半導體檢測技術邁向自主可控注入了強大動力。雙方將共同致力于質譜技術的研發與應用，推動國產儀器在半導體領域的高端化發展。

飛行時間二次離子質譜上海應用中心揭牌

主題報告環節——

演講嘉賓：中國物理學會質譜分會理事長 方向

　　中國物理學會質譜分會理事長方向帶來了題為“質譜技術與儀器發展及展望”的報告。

　　方向表示，質譜技術從發明至今已有一百多年歷史，其發展受到應用需求和技術遷移的雙重牽引。近年來，隨著食品安全、環境監測等領域的需求增長，質譜技術在新材料、生命科學等領域的應用也日益廣泛，推動了技術的不斷創新和發展。他強調，質譜技術在半導體材料分析、生命科學、高純材料檢測等方面具有重要應用，未來的發展將更加注重高時空分辨、高靈敏度和高選擇性等方向。

演講嘉賓：雪迪龍副總工程師 張倩暄

　　雪迪龍副總工程師張倩暄帶來了題為“基于CRDS等技術的半導體解決方案”的報告。

　　雪迪龍的主營業務涵蓋環境監測、碳監測碳計量、工業過程分析、科學儀器和環境綜合服務五大板塊。雪迪龍基于光譜、色譜、質譜等技術開發了多種分析儀器，如飛行時間質譜儀、二次離子質譜儀和傅里葉紅外光譜儀等，助力科學研究。

　　針對半導體生產工藝中遇到痕量成分檢測的難題，雪迪龍推出了基于光腔衰蕩光譜（CRDS）的痕量氣體分析儀、以及用于晶圓表面污染檢測的飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）等，滿足半導體行業對痕量雜質檢測的高靈敏度和高精度要求。

演講嘉賓：中國科學院化學研究所 汪福意研究員

　　中國科學院化學研究所的汪福意研究員帶來了題為“TOF-SIMS在新能源材料領域應用”的報告。

　　汪福意表示，TOF-SIMS技術能夠提供高空間分辨率和高靈敏度的分析，適用于研究材料的表面和界面特性，尤其是在新能源材料的成分和結構分析中具有獨特優勢。他還分享了其團隊在TOF-SIMS技術應用于新能源材料領域的研究成果，包括對鋰離子電池、鈉離子電池等材料的界面分析，以及通過深度剖析技術研究材料的微觀結構和性能關系。研究表明，TOF-SIMS技術能夠揭示材料內部的微觀結構和化學成分分布，為新能源材料的研發提供了重要的技術支持。

演講嘉賓：中國科學院上海應用物理研究所高級工程師 汪雪

　　中國科學院上海應用物理研究所高級工程師汪雪博士帶來題為“應物所SIMS平臺特色與典型成果”的報告。

　　她重點介紹了所內SIMS平臺的特色和應用成果，包括氣體保護進樣系統、熔鹽中雜質氧的檢測方法開發、高合金中元素擴散行為研究等，并分享了SIMS平臺在服務熔鹽堆項目、能源領域專項、上海光源重大項目以及為其他單位提供測試服務方面的典型案例。

演講嘉賓：英國KORE公司總經理Stephen James Mullock

　　雪迪龍子公司英國KORE公司總經理Stephen James Mullock博士帶來了題為“TOF-SIMS-An essential technique for a modern surface science laboratory”的報告。

　　Stephen博士介紹了飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）在現代表面科學研究中的重要性，指出該技術是表面分析實驗室不可或缺的一部分，而表面分析對于半導體行業、涂層技術以及任何需要材料粘附的領域都至關重要。

　　此外，Stephen博士還介紹了TOF-SIMS在分子信息獲取和高空間分辨率方面的優勢，分享了KORE公司在TOF-SIMS儀器設計上的創新，以及為滿足特定用戶需求而提供的定制化服務。

演講嘉賓：中國科學院上海硅酸鹽研究所 汪正研究員

　　中國科學院上海硅酸鹽研究所的汪正研究員帶來題為“等離子體質譜在半導體用高純材料的分析研究”的報告。

　　汪正研究員首先介紹了其課題組在等離子體質譜（ICP-MS）領域的研究歷程和設備情況，強調了ICP-MS在半導體材料分析中的重要性。隨著半導體行業的快速發展，對材料純度的要求越來越高，尤其是金屬雜質的控制對半導體性能有著至關重要的影響。他詳細介紹了ICP-MS技術在檢測半導體材料中痕量金屬雜質方面的優勢，包括高靈敏度、高分辨率和多元素同時分析能力。

演講嘉賓：中國科學院化學研究所 張燕燕副研究員

　　中國科學院化學研究所的張燕燕副研究員帶來了題為“原位液相二次離子質譜”的報告，分享了原位液相二次離子質譜技術在鈣礦半導體前驅體溶液老化機制、膜分離界面離子傳輸機制以及電極電解液界面電化學反應機制等領域的應用案例。

　　張燕燕介紹了其團隊在原位液相二次離子質譜技術開發及應用方面的研究成果。傳統的二次離子質譜技術主要用于固體表面分析，而其團隊通過創新性地將該技術拓展至液相體系，成功解決了液體在真空環境下快速蒸發的技術難題，實現了對溶液化學及動態物理化學界面的原位分析。

演講嘉賓：英國KORE公司技術專家Douglas Fraser Reich

　　雪迪龍子公司英國KORE公司技術專家Douglas Fraser Reich帶來了題為“The Applications of TOF -SIMS in Materials Science”的報告。

　　Fraser博士分享了他在過去25年中利用飛行時間二次離子質譜（TOF-SIMS）技術解決材料科學問題的豐富經驗，介紹了TOF-SIMS在表面化學、粘附性、多層薄膜、藥物傳遞以及半導體中低水平元素的分布和同位素標記等領域的應用。通過實際案例，展示了TOF-SIMS在工業問題解決中的強大能力。

　　在主題報告結束后，參會人員分組前往SIMS實驗室進行參觀，近距離了解實驗室的運行情況和先進設備。

參會人員參觀SIMS實驗室

　　實驗室工作人員詳細介紹了SIMS技術的操作流程、數據分析方法以及在實際應用中的注意事項。參觀結束后，部分嘉賓參加了閉門會議，圍繞“如何打破高端SIMS設備的‘卡脖子’困局”這一主題展開了深入討論。與會專家和企業代表從技術研發、人才培養、市場推廣等多個角度提出了寶貴的意見和建議，為我國高端SIMS設備的自主可控發展提供了有益的參考。

　　本次“質析毫微?譜繪萬象”半導體痕量成分檢測技術交流會圓滿落幕。半導體檢測技術的自主可控是我國半導體產業發展的關鍵，通過加強產學研合作、推動技術創新和人才培養，我國有望在高端科學儀器領域實現突破，為半導體產業的高質量發展提供有力支撐。

半導體痕量成分檢測技術交流會

　　半導體痕量成分檢測技術交流會的成功舉辦不僅為行業專家、學者和企業代表提供了一個交流合作的平臺，也為我國半導體檢測技術的自立自強注入了新的活力。相信在各方的共同努力下，我國半導體檢測技術將迎來更加廣闊的發展前景，為全球半導體產業的發展貢獻更多中國智慧和中國力量。