催化裂化催化劑新材料的表征及其裂化反應性能的研究
本論文的主要內容是合成了流化催化裂化(FCC)催化劑新材料,并通過深入表征催化裂化催化劑新材料的孔結構參數,開展了催化裂化催化劑新材料的分析及其孔結構與反應性能的關聯研究;建立X射線熒光光譜法測定催化裂化催化劑新材料磷、鐵、鑭和稀土元素的分析方法,獲得了滿意的結果。本論文的工作目的在于從分析理論水平上對催化劑的形態、孔徑和結構的影響進行研究,從而指導催化反應工藝的設計以及新型催化裂化催化劑材料的研究。論文包括三個部分。第一部分催化裂化催化劑新材料的合成、表征及其裂化反應性能的研究進展第一章催化裂化催化劑新材料的研究進展介紹了流化催化裂化(FCC)反應及其催化裂化催化劑技術進展,對FCC催化劑新材料及其工藝進行了歸納和總結,展望了設計開發具有高裂化活性和低結焦性能的催化裂化催化劑新材料的發展趨勢和應用前景。第二章催化裂化催化劑的孔結構與反應性能關系的研究進展催化裂化催化劑在制備過程中,存在著孔隙結構與表面積的變化,孔隙結構變化特征......閱讀全文
X射線熒光光譜分析
XRF的原理：X射線是電磁波譜中的某特定波長范圍內的電磁波，其特性通常用能量（單位：千電子伏特，keV）和波長（單位：nm）描述。X射線熒光是原子內產生變化所致的現象。一個穩定的原子結構由原子核及核外電子組成。其核外電子都以各自特有的能量在各自的固定軌道上運行，內層電子（如K層）在足夠能量的X射線照
X－射線熒光光譜分析
本文評述了我國在2005年至2006年X射線熒光光譜,包括粒子激發的X射線光譜的發展和應用,內容包括儀器研制、激發源、探測器、軟件、儀器改造、儀器維護和維修、樣品制備技術、分析方法研究和應用。?更多還原
X射線熒光光譜分析
X射線熒光的激發源使用X射線而不使用電子束，因為使用X射線避免了樣品過熱的問題。幾乎所有的商品X射線熒光光譜儀均采用封閉的X射線管作為初始激發光源。某些較簡單的系統可能使用放射性同位素源，而電子激發一般不單獨使用在X射線熒光光譜儀中，它僅限于在電子顯微鏡中X射線熒光分析中使用。X射線熒光譜儀具有快速
X射線熒光光譜分析
X射線熒光的激發源使用X射線而不使用電子束，因為使用X射線避免了樣品過熱的問題。幾乎所有的商品X射線熒光光譜儀均采用封閉的X射線管作為初始激發光源。某些較簡單的系統可能使用放射性同位素源，而電子激發一般不單獨使用在X射線熒光光譜儀中，它僅限于在電子顯微鏡中X射線熒光分析中使用。X射線熒光譜儀具有快速
X射線熒光光譜分析
X射線熒光的激發源使用X射線而不使用電子束，因為使用X射線避免了樣品過熱的問題。幾乎所有的商品X射線熒光光譜儀均采用封閉的X射線管作為初始激發光源。某些較簡單的系統可能使用放射性同位素源，而電子激發一般不單獨使用在X射線熒光光譜儀中，它僅限于在電子顯微鏡中X射線熒光分析中使用。X射線熒光譜儀具有快速
X射線熒光光譜儀X射線防護系統故障分析
為了防止X射線泄漏，高壓發生器只有在射線防護系統正常的情況下才能啟動。射線防護系統正常與否，主要檢查以下二部分： 1、面板的位置是否正常。X射線熒光光譜儀是一個封閉系統，面板是最外層的射線防護裝置，如果有一塊面板不到位，儀器就有射線泄漏的可能。因此，每塊面板上都有位置接觸傳感器，面板沒有完全合上
X射線熒光光譜儀X射線防護系統的故障分析
為了防止X射線泄漏，高壓發生器只有在射線防護系統正常的情況下才能啟動。射線防護系統正常與否，主要檢查以下二部分： 1、面板的位置是否正常。X射線熒光光譜儀是一個封閉系統，面板是最外層的射線防護裝置，如果有一塊面板不到位，儀器就有射線泄漏的可能。因此，每塊面板上都有位置接觸傳感器，面板沒有完全合
X射線熒光光譜儀原理分析
X熒光光譜儀（XRF）由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。然后，儀器軟件將探測系統所收集
X射線熒光光譜法的分析
X射線熒光光譜法---能量色散 利用初級X射線光子或其他微觀離子激發待測物質中的原子，使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學態研究的方法。按激發、色散和探測方法的不同，分為X射線光譜法(波長色散)和X射線能譜法(能量色散)。 當原子受到X射線光子(原級X射線)或其他微觀粒子的激發
X射線熒光光譜分析簡介
一臺典型的X射線熒光（XRF）儀器由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。 然后，儀器
X射線熒光光譜分析概述
X射線熒光光譜分析（X?Ray?Fluorescence，XRF）是固體物質成分分析的常規檢測手段，也是一種重要的表面/表層分析方法。由于整體技術和分光晶體研制發展所限，早期的X射線熒光光譜儀檢測范圍較窄，靈敏度較差。隨著測角儀、計數器、光譜室溫度穩定等新技術的進步，使現代X射線熒光光譜儀的測量精密
X射線熒光光譜分析（－XRF）
XRF：X射線熒光光譜分析(X Ray Fluorescence) 的X射線是電磁波譜中的某特定波長范圍內的電磁波，其特性通常用能量（單位：千電子伏特，keV）和波長（單位：nm）描述。X射線熒光是原子內產生變化所致的現象。一個穩定的原子結構由原子核及核外電子組成。其核外電子都以各自特有的能量在各自
x射線衍射、x熒光、直讀光譜區別
1、X射線衍射儀是利用衍射原理,精確測定物質的晶體結構,織構及應力,精確的進行物相分析,定性分析,定量分析.廣泛應用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教學,材料生產等領域. X射線衍射儀是利用X射線衍射原理研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,廣泛應用于各大、專院校,科研院所及廠礦企業. 基
X射線熒光光譜和熒光光譜－區別
一、理論上。熒光光譜是比較寬的概念，包括了X射線熒光光譜。二、從儀器分析上，熒光光譜分析可以分為：X射線熒光光譜分析、原子熒光光譜分析，1）X射線熒光光譜分析——發射源是Rh靶X光管2）原子熒光光譜分析——可用連續光源或銳線光源。常用的連續光源是氙弧燈，常用的銳線光源是高強度空心陰極燈、無極放電燈、
X射線熒光光譜儀中X射線的由來和性質分析
X射線熒光光譜儀（XRF）由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。然后，儀器軟件將探測系統所
X射線熒光光譜分析的簡介
利用初級X射線光子或其他微觀離子激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線）而進行物質成分分析和化學態研究的方法。按激發、色散和探測方法的不同，分為X射線光譜法（波長色散）和X射線能譜法（能量色散）。 根據色散方式不同，X射線熒光分析儀相應分為X射線熒光光譜儀（波長色散）和X射線熒光能譜儀
X－射線熒光光譜如何分析鍍（涂）層
?X射線熒光光譜通常用于分析均勻樣品中的成分含量。對于大多數樣品來講，樣品中被激發的各個元素的X射線熒光只來自于樣品表面，樣品內部的X射線熒光被樣品本身吸收了。所以，X射線熒光信號的強度與樣品的厚度無關。這種樣品稱之為無限厚樣品。???當樣品很薄時，比如鍍層樣品，樣品中被激發的X射線熒光可能會穿透鍍
X射線熒光光譜分析法
利用原級 X射線光子或其他微觀粒子激發待測物質中的原子,使之產生熒光（次級X射線）而進行物質成分分析和化學態研究的方法。在成分分析方面,X射線熒光光譜分析法是現代常規分析中的一種重要方法。 簡史 20世紀20年代瑞典的G.C.de赫維西和R.格洛克爾曾先后試圖應用此法從事定量分析，但由于當時記錄
什么是X射線熒光光譜分析？
一臺典型的X射線熒光（XRF）儀器由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。 探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。儀器軟件將
X射線熒光光譜儀檢測分析原理
X射線熒光光譜分析儀可以對各種樣品的元素組成進行定量分析，包括壓片、融珠、粉末液體、甚至是龐大的樣品。它使用一種高功率X射線管達到了檢測限低和測量時間短的效果。具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。 X射線熒光光譜分析儀物理原理 當材料暴露在短波長X光檢查，或伽馬射線，其組成原子可能發生
X射線熒光光譜的概念
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
什么是X射線熒光光譜
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X－射線熒光光譜儀
用X射線照射試樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長，同時又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型和能量色散型。圖
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X射線熒光光譜儀X射線光管結構
常規X射線光管主要采用端窗和側窗兩種設計。普通X射線光管一般由真空玻璃管、陰極燈絲、陽極靶、鈹窗以及聚焦柵極組成，并利用高壓電纜與高壓發生器相接，同時高功率光管還需要配有冷卻系統。側窗和端窗X射線光管結構如圖6和圖7所示。 當電流流經X射線光管燈絲線圈時，引起陰極燈絲發熱發光，并向四周發射電子