SEMICONChina|譜育科技全新發布EXPEC7350SPLUS，助力助力半導體檢測國產化

　　2026年3月25日，SEMICON China 2026在上海新國際博覽中心開幕。本屆展會以“跨界全球，心芯相連”為主題，匯集全球半導體制造領域主要設備與材料廠商，是產業鏈上下游技術交流與合作的重要平臺之一。

　　展會期間，譜育科技發布了新款三重四極桿電感耦合等離子體質譜儀（ICP-MS）——EXPEC 7350S Plus系列，并展示了其在半導體產業鏈中的多款關鍵檢測設備。

　　新品發布聚焦國產化與自主可控

　　在3月25日上午舉行的“芯之眼，中國芯”新品發布會上，譜育科技半導體業務銷售總監 湯宏厚表示，精準檢測能力已從技術需求演變為支撐中國半導體產業自主可控的戰略需求，相關檢測設備的核心技術需實現自主掌控。此次發布的EXPEC 7350S Plus ICP-MS/MS，定位于為芯片制造提供國產化的高精度檢測手段。

　　中國科學院上海硅酸鹽研究所研究員汪正、上海集成電路材料研究院有限公司檢測分析事業部主任李春華、中國地質大學（武漢）分析測試中心副主任郭偉三位專家出席發布活動。汪正指出，隨著半導體制造進入埃米尺度，ICP-MS在材料純度控制中發揮著關鍵作用，新產品的推出為國產半導體產業提供了更具競爭力的檢測工具。

　　技術升級：靈敏度與國產化率雙提升

　　在技術報告環節，譜育科技吳智威博士介紹了EXPEC 7350S Plus的技術特性。該產品在靈敏度、抗干擾能力及自動化聯用方面均有提升，針對濕化學品、晶圓金屬雜質、硅烷、電子特氣等典型樣品的檢出限穩定在sub-ppt級別。據介紹，該設備可支持主流及先進制程對材料認證和工藝控制的更高要求。

　　三大解決方案覆蓋多場景檢測需求

　　展會上，譜育科技集中展示了三大綜合解決方案：

　　超痕量金屬離子檢測：以EXPEC 7350系列為核心，覆蓋高純濕化學品、光刻膠、硅烷、晶圓表面金屬殘留及高純石英材料等關鍵材料的痕量雜質分析。

　　AMC微污染氣體監測：通過AMC在線監測系統，結合多種氣體分析儀與便攜GC-MS，實現對潔凈室中總酸、總堿、VOC等污染物的ppb級連續監測。

　　半導體特氣探測：展出GDM-2100 Series、GTYQ-4000 Series、GDM-3100 Series及GDM-1000系列等產品，支持40余種特氣泄漏檢測，并可輸出報警信號。

　　應用案例：產線驗證與用戶反饋

　　據譜育科技介紹，EXPEC 7350系列已在多家半導體企業實現落地應用。

　　在超痕量金屬離子檢測方面，某寬禁帶半導體材料企業將該系列設備用于襯底拋光片、外延片及高純試劑中痕量金屬檢測。經過半年使用，用戶反饋其在檢出限、穩定性、氧化物產率等關鍵指標上達到或超越國際同類產品水平。此外，多家先進制程芯片制造企業及8英寸、12英寸集成電路制造企業將其用于G3至G5級化學品的質量控制，實現了G5級硝酸、氫氟酸、雙氧水等試劑的過程品控。某12英寸硅片制造企業則采用VPD與7350S的組合方案，實現晶圓表面金屬離子沾污的自動化監測。

　　在特氣泄漏探測方面，GDM-2100 Series氣體探測器在某12英寸集成電路生產線建設項目中投入使用，覆蓋30余種有毒有害氣體的實時監測，并通過多層級報警聯動提升產線安全水平。

　　在AMC微污染監測方面，國內一家12英寸晶圓廠采用AMC 1000系統后，實現了潔凈室污染物濃度的實時可視化監測，為環境管理和生產優化提供了數據支持，有助于提升良率、降低設備損耗。

　　作為半導體檢測裝備領域的國內企業之一，譜育科技近年來持續推動高端檢測設備的國產化進程。此次EXPEC 7350S Plus的發布，在技術指標與自主可控程度上均體現出進一步突破。隨著半導體制造對材料純度與工藝控制要求的不斷提升，國產檢測裝備在產業鏈中的地位有望持續增強。