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從書上查了一些內容，書的年代比較久遠，可能買不到...有興趣的話，嘗試著去圖書館借一下吧。 SEM工作時，電子槍發射的入射電子束打在試樣表面上，向內部穿透一定的深度，由于彈性和非彈性散射形成一個呈梨狀的電子作用體積。電子與試樣作用產生的物理信息，均由體積內產生。 二次電子是入射電子在試樣內部穿透和散射過程中，將原子的電子轟擊出原子系統而射出試樣表面的電子，其中大部分屬于價子激發，所以能量很小，一般小于50eV。因此二次電子探測體積較小。二次電子發射區的直徑僅比束斑直徑稍大一些，因而可獲得較高的分辨率。 二次電子像的襯度取決于試樣上某一點發射出來的二次電子數量。電子發射區越接近表面，發射出的二次電子就越多，這與入射電子束與試樣表面法線的夾角有關。試樣的棱邊、尖峰等處產生的二次電子較多，相應的二次電子像較亮；而平臺、凹坑處射出的二次電子較少，相應的二次電子像較暗。根據二次電子像的明暗襯度，即可知道試樣表面凹凸不平的狀況，二......閱讀全文
結構 1．鏡筒 鏡筒包括電子槍、聚光鏡、物鏡及掃描系統。其作用是產生很細的電子束（直徑約幾個nm），并且使該電子束在樣品表面掃描，同時激發出各種信號。 2．電子信號的收集與處理系統 在樣品室中，掃描電子束與樣品發生相互作用后產生多種信號，其中包括二次電子、背散射電子、X射線、吸收電子、俄歇
特點（一）?能夠直接觀察樣品表面的結構，樣品的尺寸可大至120mm×80mm×50mm。（二）?樣品制備過程簡單，不用切成薄片。（三）?樣品可以在樣品室中作三度空間的平移和旋轉，因此，可以從各種角度對樣品進行觀察。（四）?景深大，圖象富有立體感。掃描電鏡的景深較光學顯微鏡大幾百倍，比透射電鏡大幾十倍
景 深景深是指焦點前后的一個距離范圍，該范圍內所有物點所成的圖像符合分辨率要求，可以成清晰的圖像；也即，景深是可以被看清的距離范圍。掃描電子顯微鏡的景深比透射電子顯微鏡大10倍，比光學顯微鏡大幾百倍。由于圖像景深大，所得掃描電子像富有立體感。電子束的景深取決于臨界分辨本領d0和電子束入射半角αc。其
01.電子源大小 電子源大小為電子槍發射出電子后經韋氏帽匯聚后所形成的電子束斑，六硼化鑭和六硼化鈰燈絲明顯小于鎢燈絲，更有利于經過聚光鏡和物鏡匯聚后形成更小的電子束斑，從而得到更好的分辨率； ? 02.亮度 亮度為燈絲單位面積內的電子流強度，亮度越高，越有利于得到更充足的信號，提高圖片的信噪比
工作程序 （1）開啟試樣室進氣閥控制開關（CHAMB VENT），將試樣放入試樣室后將試樣室進氣閥控制開關（CHAMB VENT）關閉抽真空。 （2）開啟鏡筒真空隔閥。 （3）加高壓（ACCELERATION POTENTIAL）至25KV. （4）加燈絲電流（FILAMENT）至7.5-8. （
關機程序 （1）關燈絲電流（FILAMENT）。 （2）關高壓（ACCELERATION POTENTIAL）。 （3）反時針調節顯示器對比度（CONTRAST）、亮度（BRIGHTNESS）到底. （4）關閉鏡筒真空隔閥。 （5）關主機電源開關。 （6）關真空開關。 （7）20分鐘后，關循環水和
掃描電鏡是一種多功能的儀器、具有很多優越的性能、是用途最為廣泛的一種儀器．它可以進行如下基本分析：? 1、觀察納米材料：其具有很高的分辨率，可以觀察組成材料的顆粒或微晶尺寸在0.1-100nm范圍內，在保持表面潔凈的條件下加壓成型而得到的固體材料。 2、材料斷口的分析：其景深大，
SEM真空系統?不同的燈絲，SEM真空系統的設計有所不同。在鎢燈絲系統中，燈絲的真空度受到運行狀態影響。例如，每次加載或卸載樣品時，都會有空氣進入真空柱，影響燈絲的使用壽命。觀察不導電樣品時，通常需要低真空，也會縮短燈絲壽命。對于CeB6系統，比如飛納電鏡，內置渦輪分子泵，采用分級真空系統，通過壓差
襯 度襯度包括：表面形貌襯度和原子序數襯度。表面形貌襯度由試樣表面的不平整性引起。原子序數襯度指掃描電子束入射試祥時產生的背散射電子、吸收電子、X射線，對微區內原子序數的差異相當敏感。原子序數越大，圖像越亮。二次電子受原子序數的影響較小。高分子中各組分之間的平均原子序數差別不大；所以只有—些特殊的高
放大倍數掃描電鏡的放大倍數可表示為M =Ac/As式中，Ac—熒光屏上圖像的邊長；As—電子束在樣品上的掃描振幅。一般地，Ac 是固定的(通常為100 mm)，則可通過改變As 來改變放大倍數。目前，大多數商品掃描電鏡放大倍數為20～20,000倍，介于光學顯微鏡和透射電鏡之間，即掃描電鏡彌補了光學