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加長炬管ICP原子/離子熒光光譜利用 Plasa/AFS 2000系統中加長炬管 ICP 為原子化器/離子化器進行等離子體原子/離子熒光光譜研究，原因之一是充分利用已有的硬件設備，尤其是系統本身的等離子體光源以及元素組件，二 是建立的等離子體原子/離子熒光光譜檢測系統可直接與 Plasa/ AFS 2000系統的分析性能進行比較。以 HCMP-HCL 為激發光源，用加長炬管 ICP 較低的觀測高度對部分堿土金屬元素（Ca、Sr、Ba）、稀土元素（Eu、Yb）的 AFS/ IFS 研究結果表明，離子熒光光譜的檢出限與原子熒光光譜相比均得到了一定程度的改善。下表是利用 Plasa/AFS 2000原子熒光光譜儀的加長炬管 ICP、以 HCMP-HCL 為激發光源進行原子/離子熒光光譜研究的實驗結果。表中結果說明，HCMP-HCL 激發的 ICP- AFS/IFS 可以改善堿土元素、稀土元素的檢出限，對難熔元素Ba、 Eu 的檢測能力......閱讀全文
加長炬管ICP原子/離子熒光光譜利用 Plasa/AFS 2000系統中加長炬管 ICP 為原子化器/離子化器進行等離子體原子/離子熒光光譜研究，原因之一是充分利用已有的硬件設備，尤其是系統本身的等離子體光源以及元素組件，二 是建立的等離子體原子/離子熒光光譜檢測系統可直接與 Plasa/ AFS
使用短炬管的 ICP 原子化器、離子化器進行原子/離子熒光信號觀測時，觀測區域一般也是在等離子體的尾焰部分，使用的入射功率也要比 ICP-AES 分析時的等離子體功率低，一般為800W 左右。對 HCMP-HCL 激發的短炬管 ICP-AFS/IFS 的研究表明，由于熒光信號觀測區域的等離子體溫度較
無論使用 HCL 或 Xe 弧燈、Ar 或 He， MIP 都可以用作原子熒光光譜的原子化器，開展對堿金屬、堿土金屬以及過渡金屬元素的原子熒光光譜研究；普通 HCL 與 Xe 弧 燈作激發源的 Ar MIP-AFS 對所研究元素的原子熒光光譜的檢出限基本相當，都表現為堿金屬、堿土金屬元素的檢出限比其
對 ICP-AFS/IFS 研究工作的主要方向是追求被測元素，尤其是難熔金屬元素的檢出限，使該技術能滿足痕量、超痕 量金屬元素分析的要求。由于 ICP 優異的高溫性能，增加 ICP 的入射功率，可增大待測元素原子的電離度，增加待測元素粒子數密度，因此，ICP-IFS 是解決難熔元素原子熒光光譜測定靈
1、 空心陰極燈的強短脈沖供電電源與 DC-HCL 或 CP-HCL 供電電源相比，HCMP-HCL 供電電源需要進行特殊設計，電源要提供微秒寬度的脈沖，峰值工作電流 一般為幾安培，最大可到十幾安培。下圖所示為強短脈沖電源示意圖。強短脈沖供電時，HCL 工作在大電流狀態，電流一般為幾安培，對個別元素
等離子炬管分為輸入載氣ar的內層管、輸入輔助氣ar的中層管和輸入等離子氣ar的外層管。用ar做工作氣體的優點：ar為單原子惰性氣體，不與試樣組份形成難離解的穩定化合物，也不象分子那樣因離解而消耗能量，有良好的激發性能，本身光譜簡單。外層管：外層管通ar氣作為冷卻氣，沿切線方向引入，并螺旋上升，其作用
炬管和霧化室可以通過計算機x、y、z三維調控，調節精確度可達0.1mm；使用接頭夾固定炬管和連接管，方便器件的維護、更換；通過化學工作站軟件可以控制、移動整個炬管箱至后方，方便用戶直接維護錐和提取透鏡。
痕量、超痕量金屬元素的檢測是實驗室日常工作中經常遇到的問題。金屬元素最常用的測定方法主要有 ICP-AES、石墨爐原子吸收光譜（GFAAS）、火焰原子吸收光譜（FAAS）和原子熒光光譜分析技術。ICP-MS 是最近一些年快速發展起來的一種痕量、超痕量元素分析技術，其優異的分析性能，如靈敏度高、動態線
Perkins 等采用 TM010?腔獲得的低功率 MIP 為原子化 器，通過使用普通 HCL 或 Xe 弧燈為激發光源、Ar 或 He 為 工作氣體研究了多種元素的原子熒光光譜，證明 MIP 也可用作原子熒光光譜的原子化器。在 Perkins 等此建立的研究系統中，樣品經氣動霧化后不 經去溶直接進
電感耦合等離子體原子發射光譜儀由樣品引入系統、電感耦合等離子體（ICP）光源、色散系統、檢測系統等構成，并配有計算機控制及數據處理系統，冷卻系統、氣體控制系統等。