不知道你所說的薄膜法指什么.一般對于薄膜材料,XRD能夠做:掠入射(GIXRD): 分析晶態薄膜物相,殘余應力反射率測量(XRR): 對膜質量要求較高,晶態非晶皆可.一般分析納米級別薄膜的厚度,深入一點可通過擬合的方法來分析密度,表面界面的粗糙度掠入射小角散射(GISAXS): 分析薄膜的納米結構.這個比較新.......閱讀全文
不知道你所說的薄膜法指什么.一般對于薄膜材料,XRD能夠做:掠入射(GIXRD):????分析晶態薄膜物相,殘余應力反射率測量(XRR):????對膜質量要求較高,晶態非晶皆可.一般分析納米級別薄膜的厚度,深入一點可通過擬合的方法來分析密度,表面界面的粗糙度掠入射小角散射(GISAXS):????分
謝勒公式D=kλ/FWHM cosθ計算D:晶粒尺寸(不叫離子尺寸的)k:0.89λ:XRD測試的x射線的波長,一般分kα1和kα2,具體用那種需要問測試老師。FWHM:半高寬θ:衍射角具體方法:選定最強的衍射峰,測量其衍射角和半高寬(可用jade讀取),然后帶入公式計算即可。
XRD、SEM和AFM測試沒有固定的先后順序。1 XRD(X-ray diffraction)是用來獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構。2 SEM(掃描電子顯微鏡)是一種微觀性貌觀察手段,可直接利用樣品表面材料的物質性能進行微觀成像。3 AFM (原子力顯微鏡)是一種表面觀測儀器,與掃描隧道顯
XRD的基本原理:X射線是原子內層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產生的光輻射,主要有連續X射線和特征X射線兩種。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,X射線衍射,通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構或形態等信息的研究手段。
X射線熒光衍射:利用初級X射線光子或其他微觀離子激發待測物質中的原子,使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學態研究的方法。按激發、色散和探測方法的不同,分為X射線光譜法(波長色散)和X射線能譜法(能量色散)。當原子受到X射線光子(原級X射線)或其他微觀粒子的激發使原子內層電子電離而出現空
XRD的基本原理:X射線是原子內層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產生的光輻射,主要有連續X射線和特征X射線兩種。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,X射線衍射,通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構或形態等信息的研究手段。
XRD的基本原理:X射線是原子內層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產生的光輻射,主要有連續X射線和特征X射線兩種。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,X射線衍射,通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構或形態等信息的研究手段。
X射線熒光衍射:利用初級X射線光子或其他微觀離子激發待測物質中的原子,使之產生熒光(次級X射線)而進行物質成分分析和化學態研究的方法。按激發、色散和探測方法的不同,分為X射線光譜法(波長色散)和X射線能譜法(能量色散)。當原子受到X射線光子(原級X射線)或其他微觀粒子的激發使原子內層電子電離而出現空
XRD的基本原理:X射線是原子內層電子在高速運動電子的轟擊下躍遷而產生的光輻射,主要有連續X射線和特征X射線兩種。XRD 即X-ray diffraction 的縮寫,X射線衍射,通過對材料進行X射線衍射,分析其衍射圖譜,獲得材料的成分、材料內部原子或分子的結構或形態等信息的研究手段。需知:1、晶態
當一束單色X射線入射到晶體時,由于晶體是由原子規則排列成的晶胞組成,這些規則排列的原子間距離與入射X射線波長有相同數量級,故由不同原子散射的X射線相互干涉,在某些特殊方向上產生強X射線衍射,衍射線在空間分布的方位和強度,與晶體結構密切相關。這就是X射線衍射的基本原理。根據其原理,某晶體的衍射花樣的特