光學均勻性的概念
中文名稱光學均勻性英文名稱optical uniformity定 義介質折射率的均勻性，它表示介質內部折射率逐漸變化的不均勻程度。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）......閱讀全文
光學均勻性的概念
中文名稱光學均勻性英文名稱optical uniformity定 義介質折射率的均勻性，它表示介質內部折射率逐漸變化的不均勻程度。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
光學均勻性的定義
中文名稱光學均勻性英文名稱optical uniformity定 義介質折射率的均勻性，它表示介質內部折射率逐漸變化的不均勻程度。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
光電所在光學薄膜厚度均勻性控制技術方面取得進展
中國科學院光電技術研究所深紫外鍍膜課題組在光刻機鏡頭鍍膜技術上取得一系列進展，提出并實現了數種提高光學薄膜厚度均勻性的辦法，克服了大口徑大曲面鏡頭上薄膜厚度均勻性控制的難題。 光刻機鏡頭中包含大量的曲面光學鏡頭，隨著光刻機數值孔徑增大，部分光學鏡面的口徑增大且形狀逐步接近于半球，鏡面上鍍膜后的
光學密度的概念
光學密度又稱密度或灰度，在影像判讀中通常稱為色調，指感光材料的感光層經曝光和攝影處理后呈現的黑白程度，用D表示。
光學晶體的概念
用作光學介質材料的晶體材料。
熱光學法的概念
熱光學法（thermophotometry ）是熱分析方法的一種，又名熱光度法、熱光法。是在程序控溫條件下測量物質的光學性質與溫度的關系的一種技術。根據測光性質的不同，分為熱光度法、熱光譜法、熱折射法、熱釋光法和熱顯微鏡法。熱光學法可用來研究高聚物氧化過程、結晶現象等。
[光學]薄膜的概念特點
中文名稱[光學]薄膜英文名稱optical coating定 義為改變光學零件表面光學特性而鍍在光學零件表面上的一層或多層膜。可以是金屬膜、介質膜或這兩類膜的組合。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
熱光學法的概念
熱光學法（thermophotometry ）是熱分析方法的一種，又名熱光度法、熱光法。是在程序控溫條件下測量物質的光學性質與溫度的關系的一種技術。根據測光性質的不同，分為熱光度法、熱光譜法、熱折射法、熱釋光法和熱顯微鏡法。熱光學法可用來研究高聚物氧化過程、結晶現象等。
光學筒長的概念
中文名稱光學筒長英文名稱optical tube length定 義物鏡后焦面到第一次像面之間的距離。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），顯微鏡-顯微鏡一般名詞（三級學科）
幾何光學是的概念
幾何光學是光學學科中以光線為基礎，研究光的傳播和成像規律的一個重要的實用性分支學科。
熱風循環烘箱的均勻性好
現在的工業生產中需要用到的烘箱很多，而且種類比較特殊，兩側需要有水平進風的風口，這樣的設定是為了能夠達到中間回風的均勻設置，這樣的熱風循環烘箱的循環運風模式比較穩定。有了這種熱風循環烤箱可以提供多種形態的紅熱效果，這樣的熱風循環的烘烤系統也是比較穩定的，建議大家可以在這些機械箱進行選購，選擇更
光學測量的概念和特點
光學測量是光電技術與機械測量結合的高科技。借用計算機技術，可以實現快速，準確的測量。方便記錄，存儲，打印，查詢等等功能。 據介紹，光學測量主要應用在現代工業檢測，主要檢測產品的形位公差以及數值孔徑等是否合格。
光學測量的概念和應用
光學測量是光電技術與機械測量結合的高科技。借用計算機技術，可以實現快速，準確的測量。方便記錄，存儲，打印，查詢等等功能。 據介紹，光學測量主要應用在現代工業檢測，主要檢測產品的形位公差以及數值孔徑等是否合格。
光學克爾效應的概念介紹
光學克爾效應，或AC克爾效應是指其電場由光本身所產生的情況。這導致變異的折射率與輻射光本身的輻照度成正比。這種折射率的變化導致了的非線性光學效應的自聚焦、自相位調制以及調制不穩定性，并且是克爾透鏡鎖模的基礎。此效應僅在非常強烈的光束下才能較明顯的表現出來，比如激光。
含量均勻度測定法的基本概念
含量均勻度系指小劑量成單劑量的固體制劑,半固體制劑和非均相液體制的片(個)含量符合標示量的程度。在藥品生產過程中某些小劑量的劑型由上工藝成備的原因,可引起含量均勻度的差異。本檢查法目的在于控制每片(個)含量的均一性除另有規定外,片劑、硬膠囊劑或注射用無菌粉末,每片(個)標示量不大于25mg以保證用藥
箱式馬弗爐溫度均勻性的探討
??箱式馬弗爐溫度均勻性程度,它完全取決于爐子本身的結構,與溫控系統無關。均勻性是以同一瞬間爐膛中各點間的zui大溫差△T來表示的,△T愈小爐溫就愈均勻。對于某一具體的工件,根據工藝要求并考慮到溫控的精度,就可在爐膛中劃出一個空間,在該空間內均能滿足工件的處理要求,這個空間就稱溫度合格區。馬弗爐溫度
標準樣品的均勻性檢驗及判斷
標準樣品的均勻性是標準樣品的基本性質。均勻性即是物質的一種或幾種特性具有同組分或相同結構的狀態。檢驗規定大小的樣樣品，若被測量的特性值在規定的不確定度范圍內，則該標準樣品對這一特性值來說是均勻的。不論在制備標準樣品過程是是否經過均勻性初驗，凡成批制備并分裝成最小包裝單元的標準樣品，必須進行均勻性檢驗
變形光學系統的概念
中文名稱變形光學系統英文名稱anamorphotic optical system定 義像面上兩正交方向上的橫向放大率不等的光學系統。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
攝影光學系統的概念
中文名稱攝影光學系統英文名稱photographic optical system定 義將景物成像于感光材料上的一種光學系統。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
光學分辨率的概念
光學分辨率是指掃描儀物理器件所具有的真實分辨率。
電子光學放大[率]的概念
中文名稱電子光學放大[率]英文名稱electron optical magnification定 義直接從電子顯微鏡中取得的圖像的線性尺寸與相應樣品的線性尺寸之比值。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），電子光學儀器-電子光學儀器一般名詞（三級學科）
光學玻璃的概念和特性
包括無色光學玻璃(通常簡稱光學玻璃)、有色光學玻璃、耐輻射光學玻璃、防輻射玻璃和光學石英玻璃等。光學玻璃具有高度的透明性、化學及物理學(結構和性能)上的高度均勻性，具有特定和精確的光學常數。它可分為硅酸鹽、硼酸鹽、磷酸鹽、氟化物和硫系化合物系列。品種繁多，主要按他們在折射率(nD)-阿貝值(VD)圖
高溫電爐溫度均勻性定義
一般來說，爐膛和有效加熱區是兩個不同的概念。爐膛是指爐內全部空間。而有效加熱區是指可用于裝料的空間，它比爐膛體積小。標準爐中溫度均勻性用?Δ?K?表示在標準型式中，溫度均勻性數據表示：在有效加熱區內溫度與恒溫時間內所設定的空爐內額定工作溫度之間的相對和zui大偏差。溫度均勻性用?ΔT?表示，單位為?
藍菲光學確立國內均勻光源領域領先地位
上海2010年7月14日電 /美通社亞洲/ -- 中國科學院下屬某研究機構于近期和英國豪邁集團(HALMA)子公司 -- 美國藍菲光學(Labsphere) -- 簽署合同，采購了目前國內最大、最復雜和最精密的一套2米直徑的均勻光源系統。 由于該研究所使用這個均勻光源系統的
箱式馬弗爐溫度均勻性差的原因
?箱式馬弗爐溫度均勻性差的原因? 原因：? 1、功率分配不合理；? 2、電熱元件斷路；? 3、爐子結構不合理導致局部散熱過大；? 4、爐子密封不良，局部散熱量過大；? 5、帶風機的爐子氣體循環不均勻或風力不足；? 6、熱電偶安裝位置或插人深度不能反映真實溫度；? 7、電熱元件分布不合理；? 8、爐底
光學顯微鏡的基本概念
現代復合顯微鏡采用了雙級放大的概念，主體包含一級成像透鏡，物鏡，耦合到透鏡系統的二級目鏡或可視化透鏡操作系統。物鏡形成不同放大倍率的圖像，目鏡用于觀察由物鏡產生的圖像。高級顯微鏡配有無限遠光學系統，使平行光束通過物鏡后孔徑到telan透鏡，聚焦在目鏡的中間平面。所述顯微鏡能夠通過目鏡觀察樣品放大
遠焦光學系統的概念
中文名稱遠焦光學系統英文名稱afocal optical system定 義焦點位于無限遠處的光學系統。應用學科機械工程（一級學科），光學儀器（二級學科），光學儀器一般名詞（三級學科）
光學濾光片的概念及參數
1、按光譜波段區分濾光片： 通過光譜的長短（即光譜所處區域）把濾光片分為：紫外濾光片，可見光濾光片，近紅外濾光片，紅外濾光片，遠紅外濾光片。 光譜波長范圍如下： 紫外濾光片180~400nm 可見光濾光片400~700nm 近紅外濾光片700~3000nm 紅外濾光片3000nm~1
干燥箱溫度均勻性如何改善
目前，需要400度上干燥箱的廠家也越來越多，過去生產的400度以下干燥箱，雖然其“溫度均勻性”指標也能滿足標準要求，但總是比較臨界，稍有不慎就可能超出標準。zui近對400度以上的干燥箱采取了一系列的改進措施，使“溫度均勻性”有了較大的改善。標準規定干燥箱的溫度均勻性指標為zui高溫度正負2.5%，
影響96孔PCR儀均勻性的幾大因素
臺?96孔PCR儀的均勻性是PCR儀的重要指標，也是實驗人員非常關心的問題。造成各個孔位的溫度不均勻的因素大致有以下幾個：1、 制冷半導體片的不均勻2、 控溫點的數量3、 邊緣效應及減弱辦法4、 散熱器的散熱均勻性5、 模塊的材料及形狀6、 升降溫速度一、 制冷半導體片的不均勻現在的PCR儀大都是用