X射線熒光光譜分析的發展概述
20世紀80年代初期，商品X射線熒光光譜儀主要有波長色散X射線熒光光譜儀(WDXRF)、能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)和以正比計數器為探測器的可攜式X射線熒光光譜儀(PXRF)。WDXRF譜儀的送樣系統和參數的設置已高度自動化，用戶根據待分析試樣的組成購買理論α系數表，用于校正基體中元素間的吸收增強效應，將測得的強度轉為濃度，并獲得與化學分析結果相當的準確度。因此，在1983年Kikkert認為XRF分析是一種成熟的分析方法。然而迄今30年來由于微電子學、計算機科學、核科學和材料學的迅猛發展，為XRF分析新的發展奠定了堅實的物質基礎，同時又成為XRF分析學科的發展動力，其中微XRF分析、 全反射、用于現場分析和原位分析的可攜式和手持式譜儀應運而生，呈現出逢勃發展的態勢。即使WDXRF 分析，無論從譜儀本身還是分析方法的建立和應用，也己與30年前不可同日而語。以2011年為例，West等收集了2010年4月至2011年3月......閱讀全文
X射線熒光光譜分析的發展概述
20世紀80年代初期，商品X射線熒光光譜儀主要有波長色散X射線熒光光譜儀(WDXRF)、能量色散X射線熒光光譜儀(EDXRF)和以正比計數器為探測器的可攜式X射線熒光光譜儀(PXRF)。WDXRF譜儀的送樣系統和參數的設置已高度自動化，用戶根據待分析試樣的組成購買理論α系數表，用于校正基體中元素間的
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X射線熒光光譜儀概述
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析B(5)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水
X射線熒光光譜儀的概述
自1895年倫琴發現X射線以來，X射線及相關技術的研究和應用取得了豐碩成果。其中，1910年特征X射線光譜的發現，為X射線光譜學的建立奠定了基礎；20世紀50年代商用X射線發射與熒光光譜儀的問世，使得X射線光譜學技術進入了實用階段；60年代能量色散型X射線光譜儀的出現，促進了X射線光譜學儀器的迅
X射線熒光光譜分析概述
X射線熒光光譜分析（X?Ray?Fluorescence，XRF）是固體物質成分分析的常規檢測手段，也是一種重要的表面/表層分析方法。由于整體技術和分光晶體研制發展所限，早期的X射線熒光光譜儀檢測范圍較窄，靈敏度較差。隨著測角儀、計數器、光譜室溫度穩定等新技術的進步，使現代X射線熒光光譜儀的測量精密
概述x射線熒光光譜儀安全事項
在分析過程中，給管通電后，分析儀會發射定向輻射束。應盡合理的努力使放射線的暴露量保持在實際可行的劑量限度以下。這就是所謂的ALARA（最低合理可行）原則。三個因素將有助于最大程度地減少您的輻射暴露：時間，距離和屏蔽。 盡管便攜式x射線熒光光譜儀或手持式x射線熒光光譜儀元素分析儀發出的輻射與普通
X射線熒光光譜儀的發展歷史
X射線熒光光譜儀的發展歷史，最早可以追溯到1895年，德國物理學家威廉·康拉德·倫琴于這一年11月發現并識別出了X射線，因此，X射線在許多國家也被稱之為倫琴射線。 隨后在1909年，英國物理學家查爾斯·格洛弗·巴克拉發現了從樣本中輻射出來的X射線與樣品原子量之間的聯系；四年之后，也即在1913
X射線熒光光譜原理
X射線熒光光譜分析在20世紀80年代初已是一種成熟的分析方法，是實驗室、現場分析主、次量和痕量元素的方法之一。 X射線熒光光譜儀（XRF）是利用原級X射線或其他光子源激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線），從而進行物質成分分析的儀器。X射線熒光光譜儀又稱XRF光譜儀，有波長色散型和能
x射線衍射、x熒光、直讀光譜區別
1、X射線衍射儀是利用衍射原理,精確測定物質的晶體結構,織構及應力,精確的進行物相分析,定性分析,定量分析.廣泛應用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教學,材料生產等領域. X射線衍射儀是利用X射線衍射原理研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,廣泛應用于各大、專院校,科研院所及廠礦企業. 基
X射線熒光光譜和熒光光譜－區別
一、理論上。熒光光譜是比較寬的概念，包括了X射線熒光光譜。二、從儀器分析上，熒光光譜分析可以分為：X射線熒光光譜分析、原子熒光光譜分析，1）X射線熒光光譜分析——發射源是Rh靶X光管2）原子熒光光譜分析——可用連續光源或銳線光源。常用的連續光源是氙弧燈，常用的銳線光源是高強度空心陰極燈、無極放電燈、
X射線熒光光譜分析技術的發展
歸納了X-射線熒光光譜分析技術發展的進程。從現代控制技術的改善、儀器檢測性能的提高、元素檢測范圍的擴大等8方面闡述了波長色散X-射線熒光光譜技術的進展,還就能量色散X-射線熒光光譜儀的X射線管和探測器技術的快速發展及近10年來我國在X-射線熒光光譜分析方法方面的論文發表情況進行了總結,對近年來X-射
X射線熒光光譜分析技術的發展
歸納了X-射線熒光光譜分析技術發展的進程。從現代控制技術的改善、儀器檢測性能的提高、元素檢測范圍的擴大等8方面闡述了波長色散X-射線熒光光譜技術的進展,還就能量色散X-射線熒光光譜儀的X射線管和探測器技術的快速發展及近10年來我國在X-射線熒光光譜分析方法方面的論文發表情況進行了總結,對近年來X-射
X射線熒光光譜的概念
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X－射線熒光光譜儀
用X射線照射試樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長，同時又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型和能量色散型。圖
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
什么是X射線熒光光譜
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光光譜儀X射線光管結構
常規X射線光管主要采用端窗和側窗兩種設計。普通X射線光管一般由真空玻璃管、陰極燈絲、陽極靶、鈹窗以及聚焦柵極組成，并利用高壓電纜與高壓發生器相接，同時高功率光管還需要配有冷卻系統。側窗和端窗X射線光管結構如圖6和圖7所示。 當電流流經X射線光管燈絲線圈時，引起陰極燈絲發熱發光，并向四周發射電子
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀特點對比
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀各有優缺點。前者分辨率高，對輕、重元素測定的適應性廣。對高低含量的元素測定靈敏度均能滿足要求。后者的X射線探測的幾何效率可提高2～3數量級，靈敏度高。可以對能量范圍很寬的X射線同時進行能量分辨(定性分析)和定量測定。對于能量小于2萬電子伏特左右的能譜的分辨率差。
概述熒光X射線測厚儀的應用范圍
－測厚范圍可測定厚度范圍：取決于您的具體應用。請告訴牛津儀器您的具體應用，我們將列表可測定的厚度范圍－基本分析功能無標樣檢量線測厚，可采用一點或多點標準樣品自動進行基本參數方法校正。牛津儀器將根據您的應用提供必要的校正用標準樣品。樣品種類：鍍層、涂層、薄膜、液體(鍍液中的元素含量)可檢測元素范圍
X射線熒光光譜儀的基體效應的概述
在X射線熒光分析中，隨著高度精密、穩定儀器的出現與發展，基體效應已成為元素定量測定中分析誤差的主要來源。所謂基體效應，全面說來，是指樣品的基本化學組成和物理-化學狀態的變化，對分析射線強度所造成的影響。樣品的基本化學組成，通常指包括分析元素在內的主量元素；樣品的物理-化學狀態，則應包括固體粉末的
簡述x射線熒光光譜測厚儀特色
1.可測量0.01um-300um的鍍層。 2.可做各種鍍層（多層、合金、多層鎳）的精密測量。 3.除平板形外，還可測量圓形、棒形（細線）等各種形狀。 4.可制作非破壞性膜厚儀的標準板。 5.該電鍍膜厚檢測儀可檢查非破壞式膜厚儀的測量精度。 6.可高精度測量其他方式不易測量的三層以上的
X射線熒光光譜分析
XRF的原理：X射線是電磁波譜中的某特定波長范圍內的電磁波，其特性通常用能量（單位：千電子伏特，keV）和波長（單位：nm）描述。X射線熒光是原子內產生變化所致的現象。一個穩定的原子結構由原子核及核外電子組成。其核外電子都以各自特有的能量在各自的固定軌道上運行，內層電子（如K層）在足夠能量的X射線照
x射線熒光光譜儀簡介
x射線熒光光譜儀提供了一種最簡單，最準確，最經濟的分析方法，可用于確定多種類型材料的化學成分。它是無損且可靠的，不需要或只需很少的樣品制備，適用于固體，液體和粉末狀樣品。它可以用于從鈉到鈾的多種元素，并提供亞ppm級以下的檢測限；它也可以輕松，同時地測量高達100％的濃度。
X－射線熒光光譜分析
本文評述了我國在2005年至2006年X射線熒光光譜,包括粒子激發的X射線光譜的發展和應用,內容包括儀器研制、激發源、探測器、軟件、儀器改造、儀器維護和維修、樣品制備技術、分析方法研究和應用。?更多還原
X射線熒光光譜分析
X射線熒光的激發源使用X射線而不使用電子束，因為使用X射線避免了樣品過熱的問題。幾乎所有的商品X射線熒光光譜儀均采用封閉的X射線管作為初始激發光源。某些較簡單的系統可能使用放射性同位素源，而電子激發一般不單獨使用在X射線熒光光譜儀中，它僅限于在電子顯微鏡中X射線熒光分析中使用。X射線熒光譜儀具有快速
X射線熒光光譜儀簡介
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水