什么是X射線熒光光譜
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按光子能量進行分離來測定各元素含量。......閱讀全文
什么是X射線熒光光譜
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
什么是X射線熒光光譜儀
Ｘ射線是一種電磁輻射，其波長介于紫外線和γ射線之間。它的波長沒有一個嚴格的界限，一般來說是指波長為０．００１－５０ｎｍ的電磁輻射。對分析化學家來說，感興趣的波段是０．０１－２４ｎｍ，０．０１ｎｍ左右是超鈾元素的Ｋ系譜線，２４ｎｍ則是輕元素Ｌｉ的Ｋ系譜線。１９２３年赫維西（Ｈｅｖｅｓｙ，Ｇ．Ｖｏｎ）提
什么是X射線熒光光譜分析？
一臺典型的X射線熒光（XRF）儀器由激發源（X射線管）和探測系統構成。X射線管產生入射X射線（一次X射線），激發被測樣品。受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。 探測系統測量這些放射出來的二次X射線的能量及數量。儀器軟件將
什么是單波長X射線熒光光譜儀
通常的X射線熒光光譜儀分為能量色散X射線熒光光譜儀（ED XRF）和波長色散X射線熒光光譜儀（WD XRF），其以X射線管出射譜照射樣品后產生的元素熒光射線是以能量色散型探測器直接探測（ED XRF）或是經分光晶體分光后探測器探測（WD XRF）為主要區別。單波長X射線熒光光譜儀是在X射線照射樣品前
什么是單波長X射線熒光光譜儀
通常的X射線熒光光譜儀分為能量色散X射線熒光光譜儀（ED XRF）和波長色散X射線熒光光譜儀（WD XRF），其以X射線管出射譜照射樣品后產生的元素熒光射線是以能量色散型探測器直接探測（ED XRF）或是經分光晶體分光后探測器探測（WD XRF）為主要區別。單波長X射線熒光光譜儀是在X射線照射樣品前
什么是波長色散型X射線熒光光譜儀
波長色散X射線熒光光譜儀是利用原級X射線或其他光子源激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線）。從而進行物質成分分析的儀器。X射線熒光光譜儀又稱XRF光譜儀，有色散型和非色散型兩種。它的優點是不破壞樣品，分析速度快，適用于測定原子序數4以上的所有化學元素，分析精度高，樣品制備簡單。?X射線或其
什么是全反射X射線熒光光譜儀技術？
全反射現象由Compton于1923年發現，1971年Yoneda等首次提出利用全反射現象來激發被測元素的特征譜線。這是一種超衡量檢測XRF技術。 XRF于1981年在德國問世,實質上是EDXRF的拓展,與常規EDXRF所具有的關鍵區別就在于其反射系統：TXRF通常有一級、二級或三級反射系統
X射線熒光光譜原理
X射線熒光光譜分析在20世紀80年代初已是一種成熟的分析方法，是實驗室、現場分析主、次量和痕量元素的方法之一。 X射線熒光光譜儀（XRF）是利用原級X射線或其他光子源激發待測物質中的原子，使之產生熒光（次級X射線），從而進行物質成分分析的儀器。X射線熒光光譜儀又稱XRF光譜儀，有波長色散型和能
x射線衍射、x熒光、直讀光譜區別
1、X射線衍射儀是利用衍射原理,精確測定物質的晶體結構,織構及應力,精確的進行物相分析,定性分析,定量分析.廣泛應用于冶金,石油,化工,科研,航空航天,教學,材料生產等領域. X射線衍射儀是利用X射線衍射原理研究物質內部微觀結構的一種大型分析儀器,廣泛應用于各大、專院校,科研院所及廠礦企業. 基
X射線熒光光譜和熒光光譜－區別
一、理論上。熒光光譜是比較寬的概念，包括了X射線熒光光譜。二、從儀器分析上，熒光光譜分析可以分為：X射線熒光光譜分析、原子熒光光譜分析，1）X射線熒光光譜分析——發射源是Rh靶X光管2）原子熒光光譜分析——可用連續光源或銳線光源。常用的連續光源是氙弧燈，常用的銳線光源是高強度空心陰極燈、無極放電燈、
什么是X熒光光譜儀
X熒光光譜儀(XRF)由激發源(X射線管)和探測系統構成。X射線管產生入射X射線(一次X射線)，激發被測樣品，產生X熒光(二次X射線)，探測器對X熒光進行檢測。? 技術原理? 受激發的樣品中的每一種元素會放射出二次X射線，并且不同的元素所放射出的二次X射線具有特定的能量特性或波長特性。探測系統
什么是X射線管？
X 射線管是工作在高電壓下的真空二極管。包含有兩個電極 ：一個是用于發射電子的燈絲，作為陰極，另一個是用于接受電子轟擊的靶材，作為陽極。兩極均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外殼內。
什么是X射線機？
X射線機是一種能夠產生X射線的設備。工業軟射線機主要用于理化檢測的衍射分析儀等。而工業硬射線機主要應用于厚材料的檢測等。 X射線機是一種用來產生x射線的設備.它可以分為工業用x射線機和醫用x射線機。工業用x射線機可以按照產生射線的強度分硬射線機和軟射線機。用于理化檢測的 衍射分析儀等屬于軟射
X射線熒光光譜的概念
X射線熒光光譜(XRF)：X射線熒光光譜按 分 離 特 征 譜 線 的 方 法 分 為 波 長 色 散 型（WD－XRF）和 能 量 色 散 型（ED－XRF）兩種。WD－XRF與ED－XRF的區別在于前者是用分光晶體將熒光光束進行色散，而后者則是借助高分辨率敏感半導體檢測器與多道分析器將所得信號按
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X射線熒光光譜法
方法提要用Li2B2O7和NaBO2混合溶劑，將鎢精礦粉和純WO3作高倍稀釋熔融制成玻璃片，按WLα分析線X射線熒光光譜儀測定其強度值，換算成相對強度即可得出試樣中三氧化鎢的含量。此法適用于鎢精礦中w(WO3)為0.5%～80%的試樣。儀器波長色散X射線熒光光譜儀器儀，銠靶X光管(≥3kW)。高溫熔
X－射線熒光光譜儀
用X射線照射試樣時，試樣可以被激發出各種波長的熒光X射線，需要把混合的X射線按波長（或能量）分開，分別測量不同波長（或能量）的X射線的強度，以進行定性和定量分析，為此使用的儀器叫X射線熒光光譜儀。由于X光具有一定波長，同時又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有兩種基本類型：波長色散型和能量色散型。圖
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
X射線熒光光譜儀X射線光管結構
常規X射線光管主要采用端窗和側窗兩種設計。普通X射線光管一般由真空玻璃管、陰極燈絲、陽極靶、鈹窗以及聚焦柵極組成，并利用高壓電纜與高壓發生器相接，同時高功率光管還需要配有冷卻系統。側窗和端窗X射線光管結構如圖6和圖7所示。 當電流流經X射線光管燈絲線圈時，引起陰極燈絲發熱發光，并向四周發射電子
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀特點對比
X射線熒光光譜儀和X射線熒光能譜儀各有優缺點。前者分辨率高，對輕、重元素測定的適應性廣。對高低含量的元素測定靈敏度均能滿足要求。后者的X射線探測的幾何效率可提高2～3數量級，靈敏度高。可以對能量范圍很寬的X射線同時進行能量分辨(定性分析)和定量測定。對于能量小于2萬電子伏特左右的能譜的分辨率差。
什么是連續X射線和特征X射線譜
連續X射線，是電子跑著跑著突然被原子核拉住，能量沒地兒放，于是放出X射線，這里放出的能量是連續的。特征X射線是處于特定能級的電子吸收光子，處于激發態，跑到低能級上放出的能量，故是一份一份的，具有明顯衍射峰。介紹陰極射線的電子流轟擊到靶面，如果能量足夠高，靶內一些原子的內層電子會被轟出，使原子處于能級
X射線熒光光譜儀優點
X射線熒光光譜儀優點：1)可在一臺儀器上可實現掃描式X射線波長色散分析、X射線能量色散分析、X-射線聚焦微小區域分析、游離氧化鈣X射線衍射分析。2)波長色散通道（波譜核）和能量色散通道（能譜核）可同時分別得到Be-?Am?和Na-Am?所有元素的光譜數據和定量分析結果。3)軟件可以得到上述各種分析技
X射線熒光光譜分析
X射線熒光的激發源使用X射線而不使用電子束，因為使用X射線避免了樣品過熱的問題。幾乎所有的商品X射線熒光光譜儀均采用封閉的X射線管作為初始激發光源。某些較簡單的系統可能使用放射性同位素源，而電子激發一般不單獨使用在X射線熒光光譜儀中，它僅限于在電子顯微鏡中X射線熒光分析中使用。X射線熒光譜儀具有快速
關于X射線熒光光譜的介紹
X射線熒光光譜(XRF, X Ray Fluorescence)是通常把X射線照射在物質上而產生的次級X射線叫X射線熒光(X-Ray Fluorescence)，受激發的樣品中的每一種元素會放射出X射線熒光，并且不同的元素所放射出的X射線熒光具有特定的能量特性或波長特性。探測系統測量這些放射出來
x射線熒光光譜儀簡介
x射線熒光光譜儀提供了一種最簡單，最準確，最經濟的分析方法，可用于確定多種類型材料的化學成分。它是無損且可靠的，不需要或只需很少的樣品制備，適用于固體，液體和粉末狀樣品。它可以用于從鈉到鈾的多種元素，并提供亞ppm級以下的檢測限；它也可以輕松，同時地測量高達100％的濃度。
簡述x射線熒光光譜測厚儀特色
1.可測量0.01um-300um的鍍層。 2.可做各種鍍層（多層、合金、多層鎳）的精密測量。 3.除平板形外，還可測量圓形、棒形（細線）等各種形狀。 4.可制作非破壞性膜厚儀的標準板。 5.該電鍍膜厚檢測儀可檢查非破壞式膜厚儀的測量精度。 6.可高精度測量其他方式不易測量的三層以上的
X射線熒光光譜儀概述
X射線熒光光譜儀具有重現性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析B(5)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結果，結果準確度對某些樣品可以接近定量水