光刻膠軟烘
軟烘的目的是去掉光刻膠中的溶劑、增強光刻膠的粘附性、釋放旋轉涂膠產生的內應力、改善線寬控制、防止光刻膠粘附到其他器件上。軟烘在真空熱板上進行，軟烘設備工作原理如圖2.17所示，硅片放在真空熱板上，熱量從硅片背面通過熱傳導方式加熱光刻膠。一般軟烘溫度為85~120℃，時間為30~60S。軟烘后將硅片轉移到軌道系統的冷板上冷卻以便下一步操作。以光學紫外曝光為例，首先將硅片定位在光學系統的聚焦范圍內，硅片的對準標記與掩模版上相匹配的標記對準后，紫外光通過光學系統和掩模版圖形進行投影。掩模版圖形若以亮暗的特征出現在硅片上，這樣光刻膠就曝光了。 ......閱讀全文
光刻膠軟烘
軟烘的目的是去掉光刻膠中的溶劑、增強光刻膠的粘附性、釋放旋轉涂膠產生的內應力、改善線寬控制、防止光刻膠粘附到其他器件上。軟烘在真空熱板上進行，軟烘設備工作原理如圖2.17所示，硅片放在真空熱板上，熱量從硅片背面通過熱傳導方式加熱光刻膠。一般軟烘溫度為85~120℃，時間為30~60S。軟烘后將硅片轉
光刻機是什么
1、光刻機（Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等。常用的光刻機是掩膜對準光刻，所以叫 Mask Alignment System.2、一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序。3、Photolithogra
接觸式光刻機在涂膠工藝上有哪些特殊之處？
2020年11月25日 17:23 ? 來源: 岱美儀器技術服務（上海）有限公司 ??>>進入該公司展臺分享：? 作為光刻工藝中zuì重要設備之一，接觸式光刻機一次次革命性的突破，使大模集成電路制造技術飛速向前發展。了解提高接觸式光刻機性能的關鍵技術以及了解下一代光刻技術的發展情況是十分重要的。?
光刻機是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。用于生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用于芯片生產的設備。二、工
光刻機是干什么用的，工作原理是什么
一、用途光刻機是芯片制造的核心設備之一，按照用途可以分為好幾種：有用于生產芯片的光刻機；有用于封裝的光刻機；還有用于LED制造領域的投影光刻機。用于生產芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口，本次廈門企業從荷蘭進口的光刻機就是用于芯片生產的設備。二、工
2024上海光刻膠展「2024中國大型光刻膠博覽會」
展會名稱：2024中國（上海）國際半導體展覽會英文名稱：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展會時間：2024年11月18-20日?論壇時間：2024年11月18-19日?展會地點：上海新國際
烘箱真能把水分全部烘出來嗎
烘箱烘水分理論上是可以烘干全部水分。但是實際操作過程中，由于時間和樣品的關系，有可能不能烘出所有水分，比如有些樣品在加熱過程中會結塊，那么有可能水分會鎖在樣品中，還有有些高分子材料，可能需要很長時間才能把水分烘干。有些樣品中如果含有易揮發性物質的話，有可能水分和易揮發性物質一起蒸發。烘干原理：砂型和
光刻機是什么
光刻機又名掩模對準曝光機、曝光系統、光刻系統等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機的種類可分為：接觸式曝光、接近式曝光、投影式曝光。 光刻機的工作原理是通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補
佳能光刻機共享
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
佳能光刻機共享應用
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
佳能PLA500光刻機共享應用
儀器名稱：佳能光刻機儀器編號：80424600產地：日本生產廠家：日本型號：PLA-500出廠日期：198004購置日期：198004所屬單位：集成電路學院>微納加工平臺>光刻工藝放置地點：微電子所新所一樓微納平臺光刻間固定電話：固定手機：固定email：聯系人：竇維治（010-62781090,1
勻膠機概述
勻膠機主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。 送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100—9900轉/分（±10轉/分），起動加速度可調。每道程序的持續時間，轉速、加速度、烘烤溫度、烘烤時間、預烘時間等工藝參數均可通過編程控制。 勻膠機
慢性淋巴水腫的烘繃治療和各種手術治療
1.烘繃療法烘繃療法是發掘祖國醫學遺產的一種治療方法。其治療原理是利用持續輻射熱，使患肢皮膚血管擴張，大量出汗，局部組織間隙內的液體回入血液，改善淋巴循環。對于淋巴水腫尚未發生肢體皮膚嚴重增生者可選用烘繃療法。有電輻射熱治療和烘爐加熱兩種方法。醫學教育網整理溫度控制在80～100℃，每日1次，每
光刻機工作原理和組成
光刻機通過一系列的光源能量、形狀控制手段，將光束透射過畫著線路圖的掩模，經物鏡補償各種光學誤差，將線路圖成比例縮小后映射到硅片上，不同光刻機的成像比例不同，有5:1，也有4:1。然后使用化學方法顯影，得到刻在硅片上的電路圖（即芯片）。一般的光刻工藝要經歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準
軟瓊脂法
軟瓊脂法是一種克隆化的方法。克隆化是指使單個細胞無性繁殖而獲得該細胞團體的整個培養過程。
日本光刻膠大廠計劃提價－增幅約10％20％
據韓媒《The Elec》報道，業內人士透露，日本住友化學子公司東友精密化學（Dongwoo Fine-Chem）向韓國半導體企業表示，由于原材料和勞動力成本上漲，擬提高氟化氪（KrF）和L線光刻膠價格，增幅因產品而異，約為10%-20%。 光刻膠是半導體制作的關鍵材料，能夠利用光化學反應，經
實驗儀器非正常使用指南之“烘”趴神器
最近，各路大神們開始在X音上分享自己特殊的做菜方法，瞬時掀起一番“龍爭虎斗”，引得一眾粉絲競相追捧。對此，號稱實驗室廚神的諸位表示十分不服！嚷嚷著要奉獻出自己闖蕩實驗室多年的感悟——實驗儀器小妙招之化身廚神篇！?
真空干燥箱對于所烘的物料有什么要求？
真空干燥箱對于所烘的物料是有要求的，其一是不能含有大量的水，其二是不能含有有機化合物;二者在抽真空的同時會被泵抽進體內，從而產生一系列的不良反應，影響泵的使用壽命。如果物料含水或者是有機溶劑，得加液態水過濾器和冷凝器，起到一個過濾的作用。我們在使用真空干燥箱的同時， 也一定要加強對于真空泵的維護，及
微流控技術起源及原理解析
微型化、集成化和智能化，是現代科技發展的一個重要趨勢。伴隨著微機電加工系統（ MEMS ）技術的發展，電子計算機已由當年的”龐然大物”演變成由一個個微小的電路集成芯片組成的便攜系統，甚至是一部微型的智能手機。MEMS技術全稱Micro Electromechanical System ， MEM
微流控技術原理及起源
微型化、集成化和智能化，是現代科技發展的一個重要趨勢。伴隨著微機電加工系統（ MEMS ）技術的發展，電子計算機已由當年的”龐然大物”演變成由一個個微小的電路集成芯片組成的便攜系統，甚至是一部微型的智能手機。 MEMS技術全稱Micro Electromechanical System ， M
勻膠機的主要介紹
勻膠機是在高速旋轉的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備，膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度。主要用于晶片涂光刻膠，有自動、手動和半自動三種工作方式。送片盒中的晶片，自動送到承片臺上，用真空吸附，在主軸電機的帶動下旋轉，轉速100-9900轉/分(±10轉/
軟電離的定義
由于離子化所需要的能量隨分子不同差異很大，因此，對于不同的分子應選擇不同的離解方法。通常稱能給樣品較大能量的電離方法為硬電離方法，而給樣品較小能量的電離方法為軟電離方法，后一種方法適用于易破裂或易電離的樣品。“軟”是相對于最常用的電子電離EI而言。采用軟電離技術容易獲得能指明相對分子質量的準分子離子
溫濕度監測儀在烘繭系統中的應用
隨著現代科技的發展，農業種植中越來越多的科技儀器取代了人工的應用，尤其是在溫室大棚中的應用比較多。比如溫濕度監測儀的使用是常見的一個。對于該儀器從過去簡單的傳感器設計到現代的單片機的應用使得其具有更好的測量精度。 溫濕度監測儀的測量階段，單片機每10s向溫濕度傳感器發送一次溫度和濕度測量指令，并接受
如何簡單烘好金銀花？金銀花烘干機
金銀花傳統的烘干做法是用土烤房烘烤，質量參差不齊、烘干效率低、烘干溫度難控制等問題，逐漸適應不了金銀 花產業的規模化、集約化、現代化，季節性化的發展，適應不了高品質、快節奏的現代生活。 中草藥加工企業 隨著機械化、自動化及科研信息技術的發展，自動化、智能化的高溫熱泵烘干機在最近成為了烘干加工企
烘箱烘潮糧玉米第一次用多少樣品
第一次用80克玉米。玉米水分含量烘箱法檢測1.儀器：天平、烘箱、糧食粉碎機、干燥器、鋁盒2.操作方法：（1）烘干鋁盒：調節烘箱溫度至105℃,取潔凈空鋁盒放在烘箱內的烘網上,烘干30min至1h。取出后置于干燥器內冷卻至室溫,取出稱量;再烘30 min,置于干燥器內冷卻至室溫,取出稱量。烘干至前后質
電泳漆在200攝氏度下烘多少時間能干
在保持200℃的條件下，不包括從零到200的升溫過程，環氧漆一般20-30min吧；至于其它的漆如丙烯酸的溫度倒是不用烤的這么高的，150-170℃就OK了，15-20min差不多了就。
微流控技術原理及發展史（一）
微型化、集成化和智能化，是現代科技發展的一個重要趨勢。伴隨著微機電加工系統（ MEMS ）技術的發展，電子計算機已由當年的”龐然大物”演變成由一個個微小的電路集成芯片組成的便攜系統，甚至是一部微型的智能手機。MEMS技術全稱Micro Electromechanical System ， MEM
溫濕度監測儀在烘繭連續動態系統中應用
烘繭溫濕度連續動態測量系統的軟件包括兩部分，一部分是溫濕度監測儀器中自動進行語言程序匯編的單片機組成，其作用是主要用于對于相關指令的發送；另外重要的一部分便是語言編寫軟件，這部分的主要功能是實現溫濕度監測儀測定數據的接受和自動處理過程。 溫濕度監測儀上電后，單片機內部的程序就開始運行，首先檢查與24
關于2024上海國際光刻膠展覽會開展通知|
展會名稱：2024中國（上海）國際半導體展覽會英文名稱：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展會時間：2024年11月18-20日?論壇時間：2024年11月18-19日?展會地點：上海新國際
2024邀您參展|中國(上海)國際光刻膠博覽會
展會名稱：2024中國（上海）國際半導體展覽會英文名稱：China (shanghai) int'l Circuit board & Electronic assembly Show 2024展會時間：2024年11月18-20日?論壇時間：2024年11月18-19日?展會地點：上海新國際