X射線熒光探針儀的基本信息介紹
技術指標 微聚焦X光管最大功率40kV,1.0mA；試樣上X光聚焦點直徑300um,100um,40um；10x黑白，100x(200x)彩色CCD攝像頭；樣品室尺寸330x250x330mm；自動樣品臺行程100x100x100mm。 [1] 主要功能 探頭指標高，性能好，壽命長。；全新32位軟硬件系統，工作可靠，效率高。；具有操作引導的集成式界面，使用直觀方便。；具有多種專有技術軟件，分析精度高。；軟件種類及功能豐富，且具有報告生成系統。......閱讀全文
X射線熒光探針儀的基本信息介紹
技術指標 微聚焦X光管最大功率40kV,1.0mA；試樣上X光聚焦點直徑300um,100um,40um；10x黑白，100x(200x)彩色CCD攝像頭；樣品室尺寸330x250x330mm；自動樣品臺行程100x100x100mm。 [1] 主要功能 探頭指標高，性能好，壽命長。；全新
X射線熒光分析儀的基本信息介紹
X 射線熒光光譜儀的不斷完善和發展所帶動的X 射線熒光分析技術已被廣泛用于冶金、地質、礦物、石油、化工、生物、醫療、刑偵、考古等諸多部門和領域。X 射線熒光光譜分析不僅成為對其物質的化學元素、物相、化學立體結構、物證材料進行試測，對產品和材料質量進行無損檢測，對人體進行醫檢和微電路的光刻檢驗等的
熒光X射線測厚儀的基本信息介紹
熒光X射線測厚儀是一種功能強大的材料涂/鍍層測量儀器，可應用于材料的涂/鍍層厚度、材料組成、貴金屬含量檢測等領域，為產品質量控制提供準確、快速的分析。 基于Windows2000中文視窗系統的中文版SmartLinkFP應用軟件包，實現了對cmi900/950主機的全面自動化控制，分析中不需要
X射線熒光儀的相關介紹
X射線熒光儀一般是采用，激發樣品中的目標元素，使之產生特征X射線，通過測量特征X射線的照射量率來確定目標元素及其含量的儀器。 儀器分為室內分析、野外便攜式和X射線熒光測井儀三種類型。各種類型的儀器均由探測器和操作臺兩部分組成。由于目前使用的探測器（正比計數管及閃爍計數器）能量分辨率不高，不能區
微 X 射線熒光 (μXRF)的基本信息介紹
微 X 射線熒光 (μXRF) 是一種元素分析技術，它允許檢測非常小的樣品區域。與傳統的 XRF 儀器一樣，微 X 射線熒光通過使用直接 X 射線激發來誘導來自樣品的特性 X 射線熒光發射，以用于元素分析。與傳統 XRF 不同（其典型空間分辨率的直徑范圍從幾百微米到幾毫米），μXRF 使用 X
X射線熒光光譜儀X射線吸收的介紹
當X射線穿過物質時，一方面受散射作用偏離原來的傳播方向，另一方面還會經受光電吸收。光電吸收效應會產生X射線熒光和俄歇吸收，散射則包含了彈性和非彈性散射作用過程。 當一單色X射線穿過均勻物體時，其初始強度將由I0衰減至出射強度Ix，X射線的衰減符合指數衰減定律： 式中，μ為質量衰減系數；ρ為樣
X射線熒光光譜儀X射線散射的介紹
除光電吸收外，入射光子還可與原子碰撞，在各個方向上發生散射。散射作用分為兩種，即相干散射和非相干散射。 相干散射：當X射線照射到樣品上時，X射線便與樣品中的原子相互作用，帶電的電子和原子核就跟隨著X射線電磁波的周期變化的電磁場而振動。因原子核的質量比電子大得多，原子核的振動可忽略不計，主要是原
X射線熒光光譜儀X射線的衍射介紹
相干散射與干涉現象相互作用的結果可產生X射線的衍射。X射線衍射與晶格排列密切相關，可用于研究物質的結構。 其中一種用已知波長λ的X射線來照射晶體樣品，測量衍射線的角度與強度，從而推斷樣品的結構，這就是X射線衍射結構分析（XRD）。 另一種是讓樣品中發射出來的特征X射線照射晶面間距d已知的晶體
X射線熒光分析儀的介紹
X射線熒光分析儀主要由激發、色散（波長和能量色散）、探測、記錄和測量以及數據處理等部分組成。X射線光譜儀與X射線能譜儀兩類分析儀器有其相似之處，但在色散和探測方法上卻完全不同。在激發源和測量裝置的要求上，兩類儀器也有顯著的區別。X射線熒光分析儀按其性能和應用范圍，可分為實驗室用的X射線熒光光譜儀
X 射線熒光儀檢測晶體的介紹
分光晶體是具有把 X 射線熒光按波長順序分開成光譜作用的晶體。 晶體應該具備的條件：衍射強度大；應該適用于所測量的分析線；分辨率高；峰背比高；不產生附加發射和異常反射；熱膨脹系數小、溫度效應低；經受 X 射線長期照射，穩定性好；機械強度良好；容易加工等等。