電子探針X射線顯微分析儀概述
電子探針可以對試樣中微小區域微米的化學組成進行定性或定量分析，除做微區成分分析外，還能觀察和研究微觀形貌、晶體結構等。電子探針技術具有操作迅速簡便、實驗結果的解釋直截了當、分析過程不損壞樣品、測量準確度較高等優點，在冶金、地質、土壤、生物、醫學、考古以及其他領域中得到日益廣泛應用，是土壤和礦物測試分析和樣品成分分析的重要工具。......閱讀全文
電子探針X射線顯微分析儀概述
電子探針X射線顯微分析儀(Electron probe X-raymicroanalyser , EPMA )的簡稱為電子探針 。在眾多樣品化學成分分析的儀器中，電子探針分析技術(EPMA)是一種應用較早、且至今仍具有獨特魅力的多元素分析技術。 二戰以來，世界經濟和社會的迅猛發展極大的促進了科
電子探針X射線顯微分析儀概述
電子探針可以對試樣中微小區域微米的化學組成進行定性或定量分析，除做微區成分分析外，還能觀察和研究微觀形貌、晶體結構等。電子探針技術具有操作迅速簡便、實驗結果的解釋直截了當、分析過程不損壞樣品、測量準確度較高等優點，在冶金、地質、土壤、生物、醫學、考古以及其他領域中得到日益廣泛應用，是土壤和礦物測
電子探針X射線顯微分析儀簡介
電子探針X射線顯微分析儀，簡稱電子探針。是指以聚焦的高速電子來激發出試樣表面組成元素的特征X射線，并根據X射線的波長和強度，對微區成分進行定性或定量分析的一種材料物理儀器。電子探針分析的原理是以電子束轟擊試樣表面，擊出表面組成元素的原子內層電子，使原子電離，此時外層電子迅速填補空位而釋放能量，從
電子探針X射線顯微分析儀的特征X射線和吸收電子
特征X射線 高能電子入射到樣品時，樣品中元素的原子內殼層(如K、L殼層) 處于激發態原子較外層電子將迅速躍遷到有空位的內殼層，以填補空位降低原子系統的總能量，并以特征X射線釋放出多余的能量。 吸收電子 入射電子與樣品相互作用后，能量耗盡的電子稱吸收電子。吸收電子的信號強度與背散射電子的信號
電子探針X射線顯微分析儀的陰極發光介紹
陰極發光是指晶體物質在高能電子的照射下，發射出可見光紅外或紫外光的現像。陰極發光現象和發光能力、波長等均與材料基體物質種類和含量有關。陰極發光效應對樣品中少量元素分布非常敏感，可以作為電子探針微區分析的一個補充，根據發光顏色或分光后檢測波長即可進行元素分析。從陰極發光的強度差異還可以判斷一些礦物
關于電子探針X射線顯微分析儀的結構特點介紹
電子探針X射線顯微分析儀(簡稱電子探針)利用約1Pm的細焦電子束，在樣品表層微區內激發元素的特征X射線，根據特征X射線的波長和強度，進行微區化學成分定性或定量分析。電子探針的光學系統、真空系統等部分與掃描電鏡基本相同，通常也配有二次電子和背散射電子信號檢測器，同時兼有組織形貌和微區成分分析兩方
關于電子探針X射線顯微分析儀的俄歇電子介紹
入射電子與樣品相互作用后，元素原子內層軌道的電子轟擊出來成為自由電子或二次電子，而留下空位，從而原子不穩定。則外層高能電子填充空位，釋放出能量，釋放的能量一方 面以輻射特征X射線的方式釋放，另一方面釋放的能量被該原子吸收，從而從另一軌道上轟擊出電子，該電子為俄歇電子。俄歇電子發生的幾率隨原子序
電子探針X射線顯微分析儀的透射電子相關內容
當電子束入射到薄的樣品上，如果樣品厚度比入射電子的有效穿透深度小得多，會有一定的入射電子穿透樣品，這部分電子稱為透射電子。電子的穿透能力與加速電壓有關，加速電壓高則入射電子能量大，穿透能力強。透射電子數目與樣品厚度成反比，與原子序數成正比。用途:可通過電子能量損失的方法。測定樣品成分；可觀察樣品
電子探針X射線顯微分析儀背散射電子及背散射電子像
背散射電子是指入射電子與樣品相互作用(彈性和非 彈性散射)之后，再次逸出樣品表面的高能電子，其能量接近于入射電子能量(E。)。背散射電子能量大于50eV，小于等于入射電子能量。背射電子的產額隨樣品的原子序數增大而增加，所以背散射電子信號的強度與樣品的化學組成有關，即與組成樣品的各元素平均原子序
X射線管概述
X射線管是工作在高電壓下的真空二極管。包含有兩個電極：一個是用于發射電子的燈絲，作為陰極，另一個是用于接受電子轟擊的靶材，作為陽極。兩級均被密封在高真空的玻璃或陶瓷外殼內。 利用高速電子撞擊金屬靶面產生 X射線的真空電子器件。按照產生電子的方式,X射線管可分為充氣管和真空管兩類。 充氣X射線
電子探針分析的X射線能譜法
本文介紹了使用硅(鋰)檢測器進行定量電子探針分析的一種方法,這種方法使用了背景模擬技術及其它技術中的電荷收集不完全和電子噪聲的校正。輕元素分析的改進對硅酸鹽樣品是特別有利的,使之盡可能采用純金屬作分析標樣。這種方法已被用于各種地球化學樣品的分析中(包括用JG—1和JB—1巖石做成的玻璃)。與濕式化學
概述X射線顯微鏡的成像與構造
X 射線顯微鏡的成像原理與光學顯微鏡基本上是一樣的，遵從幾何光學原理，其關鍵部件是成像和放大作用的光學元件，在光學顯微鏡中為透鏡。由于X 射線的波長很短，在玻璃和一般物質界面上的折射率均接近1，故其成像放大元件不能用玻璃透鏡，一般用波帶片。 此外，它們同樣利用吸收襯度和位相襯度成像，同樣要求有
X射線顯微分析
中文名稱X射線顯微分析英文名稱X-ray microanalysis定 義應用X射線顯微分析器探測細胞或組織的微小區域內元素成分的技術。應用學科細胞生物學（一級學科），細胞生物學技術（二級學科）
電子探針X射線微區分析的工作原理
電子探針（Electron Probe Microanalysis-EPMA）的主要功能是進行微區成分分析。它是在電子光學和X射線光譜學原理的基礎上發展起來的一種高效率分析儀器。 其原理是：用細聚焦電子束入射樣品表面，激發出樣品元素的特征X射線，分析特征X射線的波長（或能量）可知元素種類；分析
X射線檢查的概述
用X射線診斷疾病的方法。分普通檢查、特殊檢查和造影檢查。透視是一種簡便而常用的檢查方法，可從不同角度觀察臟器的形態及功能改變。由德國物理學家W.K.倫琴于1895年發現，故又稱倫琴射線。倫琴射線具有很高的穿透本領，能透過許多對可見光不透明的物質，如墨紙、木料等。
電子探針X射線微區分析儀的工作原理是怎樣的呢？
????????電子探針X射線微區分析儀簡稱電子探針。利用髙能電子束與物質相互作用時產生的特征X射線來分析試樣微區化學組成的一種顯微儀器。其工作原理為：聚焦得很細的電子束照射在試樣某微區，使該微區原子受激產生特征X射線，通過已知晶面間距的分光晶體對不同波長的X射線分光，來測量它的波長與強度，從而對微
關于電子探針X射線微區分析的線分析
使入射電子束在樣品表面沿選定的直線掃描，譜儀固定接收某一元素的特征X射線信號，其強度在這一直線上的變化曲線可以反映被測元素在此直線上的濃度分布，線分析法較適合于分析各類界面附近的成分分布和元素擴散。 實驗時，首先在樣品上選定的區域拍照一張背散射電子像(或二次電子像)，再把線分析的位置和線分析
簡介電子探針X射線微區分析的實驗條件
(1) 樣品 樣品表面要求平整，必須進行拋光；樣品應具有良好的導電性，對于不導電的樣品，表面需噴鍍一層不含分析元素的薄膜。實驗時要準確調整樣品的高度，使樣品分析表面位于分光譜儀聚焦圓的圓周上。 (2) 加速電壓 電子探針電子槍的加速電壓一般為3～50kV，分析過程中加速電壓的選擇應考慮待分
X射線顯微鏡原理
X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種，也是顯微成像技術，即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等)，但主要是從宏觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械制品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出
概述X射線熒光光譜儀X射線的產生
根據經典電磁理論，運動的帶電粒子的運動速度發生改變時會向外輻射電磁波。實驗室中常用的X射線源便是利用這一原理產生的：利用被高壓加速的電子轟擊金屬靶，電子被金屬靶所減速，便向外輻射X射線。這些X射線中既包含了連續譜線，也包括了特征譜線。 1、連續譜線 連續光譜是由高能的帶電粒子撞擊金屬靶面時受
X射線探測器概述
X射線探測器（X-raydetector）是CT成像的核心，將肉眼看不到的“X射線”轉換為最終能轉變為圖像的“數字化信號”。 x射線探測器是一種將X射線能量轉換為可供記錄的 電信號的裝置。它接收到射線照射，然后產生與輻射強度成正比的電信號。 通常探測器所接受到的射線信號的強弱，取決于該部位的人
電子探針X射線微區分析的相關內容
電子探針X射線微區分析(EPMA)Electron Probe X-ray Microanalysis是用聚焦極細的電子束轟擊固體的表面，并根據微區內所發射出X射線的波長（ 或能量）和強度進行定性和定量分析的方法。主要功能是進行微區成分分析。它是在電子光學和X射線光譜學原理的基礎上發展起來的一種
電子探針X射線微區分析能譜儀分析特點
具有以下優點（與波譜儀相比） 能譜儀探測X射線的效率高。 在同一時間對分析點內所有元素X射線光子的能量進行測定和計數，在幾分鐘內可得到定性分析結果，而波譜儀只能逐個測量每種元素特征波長。 結構簡單，穩定性和重現性都很好（因為無機械傳動），不必聚焦，對樣品表面無特殊要求，適于粗糙表面分析。
X射線顯微鏡的全息顯微術
已經知道，像是依靠吸收襯度( 光的振幅)或位相襯度一種信息來顯現的。而所謂全息，是指同時含有振幅與位相兩種信息。這是Gabor在1948 年提出的。由于記錄介質實際可記錄的信息只能是光強，也即振幅，故需將位相信息轉換成強度來記錄。把光照射到試樣上，試樣以球面波形式將其散射，如有另一束已知振幅與位
X射線顯微鏡的定義
X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種，也是顯微成像技術，即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等)，但主要是從宏觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械制品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出
X射線顯微鏡的簡介
X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種，也是顯微成像技術，即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等)，但主要是從宏觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械制品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出
X射線顯微分析技術介紹
中文名稱X射線顯微分析英文名稱X-ray microanalysis定 義應用X射線顯微分析器探測細胞或組織的微小區域內元素成分的技術。應用學科細胞生物學（一級學科），細胞生物學技術（二級學科）
X－射線顯微鏡的概念
X 射線顯微鏡是X 射線成像術的一種，也是顯微成像技術，即將微觀的、肉眼無法分辨看出的結構、圖形放大成像以便觀察研究的器械。X 射線成像的襯度原理、設備的構造與主要組成部件( 如X射線源、探測器等)，但主要是從宏觀物體的成像( 如人體器管的醫學成像、機械制品的缺陷探傷、機場車站的安全檢查等) 出發的
什么是電子探針顯微分析儀
電子探針顯微分析（EPMA = Electron Probe Microanalysis），全稱：電子探針x射線顯微分析，是一種顯微分析和成分分析相結合的微區分析。適用于分析試樣中微小區域的化學成分，是研究材料組織結構和元素分布狀態的有效方法。 電子探針顯微分析是利用聚焦電子束（電子探測針）照
自動X射線檢測儀概述
X射線具有很強的穿透性，是最早用于各種檢測場合的一種儀器。X射線透視圖可顯示焊點厚度、形狀及質量的密度分布。這些指標能充分地反映出SMT貼片加工生產焊點的焊接質量，包括開路、短路、孔洞、內部氣泡以及錫量不足，并能做到定量分析。 X射線由一個微焦點X射線管產生，穿過管殼內的一個鈹窗，投射到試驗樣